[發(fā)明專利]一種鈾表面微弧氧化的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610381418.0
• 申請(qǐng)日: 2016-06-02
• 公開（公告）號(hào): CN105780085B
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔣馳;劉天偉;吳艷萍;王佳佳;楊磊;王述鋼;郎定木
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國工程物理研究院材料研究所
• 主分類號(hào): C25D11/28
• 分類號(hào): C25D11/28
• 代理公司: 成都九鼎天元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司51214
• 代理人: 沈強(qiáng)

1.一種鈾表面微弧氧化的方法，其特征在于，該方法所采用的電解液由去離子水、磷酸鈉、氫氧化鈉組成，該電解液中，所述磷酸鈉的濃度為5~15g/L，氫氧化鈉的濃度為2~5g/L；

或該方法采用的電解液由去離子水、磷酸鈉、氫氧化鈉、添加劑組成，該電解液中，所述磷酸鈉的濃度為5~15g/L，所述氫氧化鈉的濃度為2~5g/L，所述添加劑為丙三醇、三乙醇胺中的一種或多種，所述丙三醇的含量為5~15mL/L，三乙醇胺的含量為10~50mL/L；

其包括如下步驟：

（1）預(yù)準(zhǔn)備

對(duì)預(yù)處理后的鈾材料放入裝有所述電解液的電解槽中，以鈾材料為陽極，以電解槽為陰極；

（2）微弧氧化處理

以恒流模式或恒壓模式對(duì)鈾材料進(jìn)行微弧氧化處理，從而在鈾材料表面產(chǎn)生微弧氧化反應(yīng)，并在原位生成防腐膜層；

所述步驟（2）中，電源頻率為100~2000Hz、占空比為5~20%、處理時(shí)間為3~15min；

所述步驟（2）中，恒流模式下，電流密度為16~64A/dm²；

所述步驟（2）中，恒壓模式下，正電壓為220~400V。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述鈾表面微弧氧化的方法，其特征在于，所述步驟（1）中，鈾材料為單質(zhì)鈾、鈾合金中的一種或多種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述鈾表面微弧氧化的方法，其特征在于，所述步驟（1）中，依次采用磨削、清洗處理鈾材料，得到預(yù)處理后的鈾材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1~3任一項(xiàng)所述鈾表面微弧氧化的方法，其特征在于，所述步驟（1）中，電解槽為鋼槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求1~3任一項(xiàng)所述鈾表面微弧氧化的方法，其特征在于，所述步驟（2）中，在原位生成所需防腐膜層后，將處理后的鈾材料清洗干凈、干燥，即可。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述鈾表面微弧氧化的方法，其特征在于，所述步驟（2）中，在原位生成所需防腐膜層后，將處理后的鈾材料清洗干凈、干燥，即可。