[發(fā)明專利]磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法以及磁盤(pán)的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610373331.9
• 申請(qǐng)日: 2011-08-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106057218B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-02-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 俵義浩;早川凈;長(zhǎng)田太志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G11B5/73
• 分類號(hào): G11B5/73;G11B5/84;C10M125/10
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所11038
• 代理人: 李英

本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2011年8月31日，申請(qǐng)?zhí)枮?01180031491.0，發(fā)明名稱為“磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法以及磁盤(pán)的制造方法”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及搭載于硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(HDD)等磁盤(pán)裝置的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法以及磁盤(pán)的制造方法。

背景技術(shù)

存在一種搭載于硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(HDD)等磁盤(pán)裝置的信息記錄介質(zhì)之一的磁盤(pán)。磁盤(pán)是在基板上形成磁性層等薄膜而構(gòu)成，作為該基板過(guò)去一直使用鋁基板。但是，最近，隨著記錄的高密度化的要求，與鋁基板相比玻璃基板能夠?qū)⒋蓬^和磁盤(pán)之間的間隔縮短成很小，因此玻璃基板所占有的比率逐漸增大。另外，對(duì)玻璃基板表面高精度地進(jìn)行研磨以使磁頭的上浮高度盡量下降，由此實(shí)現(xiàn)記錄的高密度化。近年來(lái)，對(duì)HDD越來(lái)越多地要求更大的存儲(chǔ)容量化和價(jià)格的低廉化，為了實(shí)現(xiàn)這樣的目的，磁盤(pán)用玻璃基板也必須具有更高的質(zhì)量和低成本。

如上所述，為了滿足記錄的高密度化所必須的低飛行高度(上浮量)，磁盤(pán)表面必須具有高平滑性。總之，要想得到磁盤(pán)表面的高平滑性就要求具有高平滑性的基板表面，因此需要對(duì)玻璃基板表面進(jìn)行高精度的研磨。

為了制造這樣的玻璃基板，現(xiàn)有技術(shù)中公開(kāi)了如下的研削方法：在使用游離磨粒進(jìn)行的研削(研磨)工序中，通過(guò)使用鉆石薄片的固定磨粒進(jìn)行研削(例如，專利文獻(xiàn)1等)。鉆石薄片是用樹(shù)脂(例如丙烯酸類樹(shù)脂等)等支撐材料固定鉆石磨粒的小球(或者將這樣的小球粘貼在薄片上的鉆石薄片)。在現(xiàn)有的游離磨粒中形狀變形的磨粒介于平臺(tái)和玻璃之間不均勻地存在，因此當(dāng)對(duì)磨粒的負(fù)荷不規(guī)定而負(fù)荷集中時(shí)，平臺(tái)表面因鑄鐵而處于低彈性，因此在玻璃上產(chǎn)生深的裂紋，玻璃的加工表面粗糙度變大，在后續(xù)的鏡面研磨工序中需要大的去除量，因此難以降低加工成本。與此相比，在通過(guò)用鉆石薄片的固定磨粒進(jìn)行的研削中，磨粒均勻地存在于薄片表面，因此負(fù)荷不會(huì)集中，并且用樹(shù)脂來(lái)將磨粒固定在薄片上，因此即使對(duì)磨粒施加負(fù)荷，由于固定磨粒的樹(shù)脂的高彈性作用，加工面的裂紋變淺，能夠降低加工表面粗糙度，從而在后續(xù)工序中的負(fù)荷下降而能夠降低加工成本。

在該研削(研磨)工序結(jié)束后，進(jìn)行鏡面研磨加工以得到高精度的平面。

另外，現(xiàn)在的HDD能夠?qū)崿F(xiàn)一平方英寸400千兆字節(jié)程度的記錄密度，例如，2.5英寸型(直徑65mm)的磁盤(pán)能夠存儲(chǔ)250千兆字節(jié)程度的信息，但是作為記錄的更高的密度化的方法，例如實(shí)現(xiàn)500千兆字節(jié)、1百萬(wàn)兆字節(jié)的方法，提出了熱輔助磁記錄方式。適用于該熱輔助磁記錄方式的磁盤(pán)需具有比現(xiàn)在的磁盤(pán)更高的耐熱性。因此，作為基板優(yōu)選使用的是耐熱性高的玻璃材料。

專利文獻(xiàn)1：特開(kāi)2001-191247號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

如上所述，通過(guò)利用鉆石薄片的固定磨粒的研削方法，能夠降低加工面的表面粗糙度，并且之后的鏡面研磨工序的負(fù)荷降低，因此能夠降低玻璃基板的加工成本，但根據(jù)本發(fā)明人的研究也存在如下的課題。

即，利用固定磨粒的研削方法的情況，發(fā)現(xiàn)伴隨著加工時(shí)間研削率會(huì)下降。圖1為表示伴隨著加工時(shí)間的研削率的變化圖，利用普通玻璃(現(xiàn)有的磁盤(pán)用玻璃基板中通常使用的鋁硅酸鹽玻璃)時(shí)，伴隨著加工時(shí)間研削率會(huì)下降，尤其是利用耐熱性玻璃(大概Tg為600℃以上)時(shí)，研削率更是大幅下降。因此，無(wú)法同時(shí)滿足既提高表面質(zhì)量又降低加工成本的要求。

為了解決上述的現(xiàn)有的課題，本發(fā)明的目的在于提供一種通過(guò)固定磨粒的研削加工不會(huì)伴隨研削率下降的能夠以低成本制造出高質(zhì)量的玻璃基板的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法，以及利用通過(guò)該方法獲得的玻璃基板的磁盤(pán)的制造方法。

發(fā)明人對(duì)利用這樣的固定磨粒的研削方法的伴隨著加工時(shí)間研削率下降的原因進(jìn)行了研究，結(jié)果認(rèn)為其原因如下。

現(xiàn)有的利用游離磨粒的研削加工中由于磨粒是游離狀態(tài)，因此在研削加工過(guò)程中所產(chǎn)生的研削屑即使附著在磨粒上，但磨粒會(huì)重復(fù)旋轉(zhuǎn)，通過(guò)平臺(tái)和玻璃的摩擦，研削屑不會(huì)堆積在磨粒表面而被排出。另外，在利用固定磨粒的研削加工中，由于磨粒是被固定的，因此如果附著有研削屑，則磨粒不會(huì)旋轉(zhuǎn)，因此研削屑堆積并固化在磨粒表面上，因此產(chǎn)生通過(guò)研削屑的固定磨粒的堵塞，從而引起加工障礙導(dǎo)致的研削率的下降。這種情況下，通過(guò)向加工面供給的潤(rùn)滑液(也可稱之為冷卻液)的作用清洗(去除)已堆積在磨粒表面的研削屑是比較困難的。通過(guò)固定磨粒的研削加工與通過(guò)游離磨粒的研削加工相比，研削量小，且進(jìn)行高精細(xì)加工，因此伴隨著加工所排出的研削屑等多包含粒徑細(xì)微的屑，因此容易附著在磨粒表面上。

另外，尤其是關(guān)于引起耐熱性玻璃的加工率大幅下降的原因，認(rèn)為其原因如下。