[發明專利]磁控管及磁控濺射系統有效
| 申請號： | 201610371827.2 | 申請日： | 2016-05-30 |
| 公開（公告）號： | CN107447195B | 公開（公告）日： | 2020-08-21 |
| 發明（設計）人： | 楊玉杰;張祿祿 | 申請（專利權）人： | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京思創畢升專利事務所 11218 | 代理人： | 孫向民 |
| 地址： | 100176 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁控管 磁控濺射 系統 | ||
1.一種磁控管，包括內磁極和外磁極，所述外磁極圍繞所述內磁極，所述外磁極與所述內磁極的磁極方向相反，
其特征在于，所述磁控管還包括：
輔助磁組，所述輔助磁組包括多個磁柱，所述多個磁柱的磁極方向與所述磁控管的磁極方向相同，所述多個磁柱橫向安裝在所述內磁極與所述外磁極之間；
設置所述輔助磁組的多個磁柱在所述內磁極與所述外磁極之間的分布方式以調節濺射薄膜的均勻性，所述輔助磁組的多個磁柱的分布方式為均勻分布。
2.根據權利要求1所述的磁控管，其特征在于，所述輔助磁組的多個磁柱放置在支撐件上，通過螺絲將所述支撐件固定在所述內磁極與所述外磁極之間。
3.根據權利要求1所述的磁控管，其特征在于，所述輔助磁組的多個磁柱橫向安裝在所述內磁極和所述外磁極的下部。
4.根據權利要求3所述的磁控管，其特征在于，所述輔助磁組的多個磁柱的下表面與所述內磁極和所述外磁極的下表面齊平。
5.根據權利要求1-4的任意一項所述的磁控管，其特征在于，所述內磁極和所述外磁極包括多個磁鐵，通過孔洞將所述多個磁鐵夾持并固定位于所述多個磁鐵上端的磁軛和位于所述多個磁鐵下端的磁極件中間。
6.根據權利要求5所述的磁控管，其特征在于，所述磁軛和所述磁極件由相同的磁性材料制成。
7.一種磁控濺射系統，其特征在于，所述磁控濺射系統采用如權利要求1-6中任意一項所述的磁控管。
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