[發(fā)明專利]光源模塊及光學(xué)檢測設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610371080.0 | 申請日： | 2016-05-30 |
| 公開（公告）號： | CN107305189A | 公開（公告）日： | 2017-10-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 梁永杰;陸家樑 | 申請（專利權(quán)）人： | 由田新技股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/88 | 分類號： | G01N21/88;G01N21/84;G01B11/24;F21S8/00;F21V14/02;F21V17/18;F21V29/67;F21V29/76;F21V33/00;F21Y113/10 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11205 | 代理人： | 馬雯雯,臧建明 |
| 地址： | 中國臺灣新北市中*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光源 模塊 光學(xué) 檢測 設(shè)備 | ||
1.一種光源模塊，其特征在于，包括：
框架，具有相互連通的容置空間、第一開口以及第二開口，其中所述第一開口與所述第二開口分別位于所述容置空間的相對兩側(cè)；以及
至少兩光源組件，可動地設(shè)置于所述框架上，且并列于所述容置空間內(nèi)，其中所述至少兩光源組件的每一個具有面向所述第一開口的出光側(cè)與面向所述第二開口的背側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，還包括：
至少兩對軸桿，所述至少兩光源組件的每一個通過對應(yīng)的所述對軸桿樞設(shè)于所述框架；以及
至少兩對定位桿，所述至少兩光源組件的每一個通過對應(yīng)的所述對定位桿滑設(shè)于所述框架。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述框架包括彼此相對兩側(cè)壁，所述兩側(cè)壁定義出所述容置空間，所述兩側(cè)壁的每一個對應(yīng)所述至少兩對軸桿設(shè)置有至少兩樞接孔，且所述兩側(cè)壁的每一個對應(yīng)所述至少兩對定位桿設(shè)置有至少兩滑槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源模塊，其特征在于，所述至少兩樞接孔的至少一個位于任兩相鄰的所述多個滑槽之間或所述至少兩滑槽的至少一個位于任兩相鄰的所述多個樞接孔之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，還包括：
至少兩散熱鰭片組，所述至少兩散熱鰭片組的每一個連接對應(yīng)的所述光源組件的所述背側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源模塊，其特征在于，還包括：
散熱風(fēng)扇，對應(yīng)所述第二開口而設(shè)置于所述框架上，其中所述至少兩散熱鰭片組的每一個位于所述散熱風(fēng)扇與對應(yīng)的所述光源組件之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，還包括：
至少兩對連動件，所述至少兩光源組件的每一個通過對應(yīng)的所述對連動件樞設(shè)于所述框架；以及
至少兩對定位桿，所述至少兩光源組件的每一個通過對應(yīng)的所述對定位桿滑設(shè)于所述框架，其中所述至少兩對定位桿的每一個穿過于對應(yīng)的所述連動件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述至少兩光源組件的每一個包括多個點光源，所述多個點光源適于發(fā)出紅光、藍光、綠光、白光或紫外光。
9.一種光學(xué)檢測設(shè)備，其特征在于，包括：
固定座；以及
至少兩光源模塊，可拆卸地設(shè)置于所述固定座的周圍，所述至少兩光源模塊的每一個包括：
框架，具有相互連通的容置空間、第一開口以及第二開口，其中所述第一開口與所述第二開口分別位于所述容置空間的相對兩側(cè)；以及
至少兩光源組件，可動地設(shè)置于所述框架上，且并列于所述容置空間內(nèi)，其中所述至少兩光源組件的每一個具有面向所述第一開口的出光側(cè)與面向所述第二開口的背側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)檢測設(shè)備，其特征在于，各所述光源模塊還包括：
至少兩對軸桿，所述至少兩光源組件的每一個通過對應(yīng)的所述對軸桿樞設(shè)于所述框架；以及
至少兩對定位桿，所述至少兩光源組件的每一個通過對應(yīng)的所述對定位桿滑設(shè)于所述框架。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)檢測設(shè)備，其特征在于，所述框架包括彼此相對兩側(cè)壁，所述兩側(cè)壁定義出所述容置空間，所述兩側(cè)壁的每一個對應(yīng)所述至少兩對軸桿設(shè)置有至少兩樞接孔，且所述兩側(cè)壁的每一個對應(yīng)所述至少兩對定位桿設(shè)置有至少兩滑槽。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)檢測設(shè)備，其特征在于，所述框架的所述至少兩樞接孔的至少一個位于任兩相鄰的所述多個滑槽之間或所述至少兩滑槽的至少一個位于任兩相鄰的所述多個樞接孔之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)檢測設(shè)備，其特征在于，所述至少兩光源模塊的每一個還包括：
至少兩散熱鰭片組，所述至少兩散熱鰭片組的每一個連接對應(yīng)的所述光源組件的所述背側(cè)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)檢測設(shè)備，其特征在于，所述至少兩光源模塊的每一個還包括：
散熱風(fēng)扇，對應(yīng)所述第二開口而設(shè)置于所述框架上，其中所述至少兩散熱鰭片組的每一個位于所述散熱風(fēng)扇與對應(yīng)的所述光源組件之間。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
