[發(fā)明專(zhuān)利]一種曝光條件檢測(cè)方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610370132.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-05-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106024665B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭賢權(quán);姬峰;陳昊瑜;陳超 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/66 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/66;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;陳慧弘 |
| 地址: | 201210 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 曝光 條件 檢測(cè) 方法 系統(tǒng) | ||
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 限制條件解決方法、限制條件解決裝置、以及限制條件解決系統(tǒng)
- 制造條件設(shè)定系統(tǒng)及制造條件設(shè)定方法
- 成形條件確定方法及成形條件確定系統(tǒng)
- 成形條件設(shè)定裝置、成形條件設(shè)定方法及成形條件設(shè)定畫(huà)面
- 攝影條件設(shè)定設(shè)備、攝影條件設(shè)定方法和攝影條件設(shè)定程序
- 生理?xiàng)l件監(jiān)視系統(tǒng)、生理?xiàng)l件傳感器和生理?xiàng)l件儀表
- 成形條件設(shè)定裝置、成形條件設(shè)定方法及成形條件設(shè)定畫(huà)面
- 條件訪問(wèn)設(shè)備
- 用于條件切換的裝置、方法、介質(zhì)和系統(tǒng)
- 基于條件分布的條件生成對(duì)抗網(wǎng)絡(luò)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)
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