[發(fā)明專利]微波暗室內(nèi)三維姿態(tài)定位方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610365295.1 | 申請日: | 2016-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN106017433B | 公開(公告)日: | 2018-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂鳴;孔德旺;莫崇江;李光天 | 申請(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號: | G01C15/00 | 分類號: | G01C15/00;G01S7/41 |
| 代理公司: | 北京君恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11466 | 代理人: | 黃啟行,張璐 |
| 地址: | 100854*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微波 暗室 三維 姿態(tài) 定位 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種微波暗室內(nèi)三維姿態(tài)定位方法,其特征在于,包括步驟:
S1.根據(jù)預設(shè)的基準點選取規(guī)則,利用激光跟蹤儀確定微波暗室的基準點;
S2.以基準點為原點,基準點鉛垂向上方向為Z軸正向,根據(jù)預設(shè)的縱軸選取規(guī)則確定的方向為Y軸正向建立三維直角坐標系;
S3.將Z軸正向與微波暗室頂端的交點標記為豎直參考點,將X軸正向與微波暗室側(cè)面的交點標記為水平參考點;在豎直參考點設(shè)置豎直十字線激光發(fā)射器,在水平參考點設(shè)置水平十字線激光發(fā)射器;
S4.在微波暗室地面確定地面特征點,調(diào)整豎直十字線激光發(fā)射器,使其發(fā)射的激光十字線在地面的投影經(jīng)過地面特征點,將該投影標記為豎直定位線;利用地面特征點調(diào)整水平十字線激光發(fā)射器,獲取其發(fā)射的激光十字線在處于X軸負向的微波暗室側(cè)面的投影,將該投影標記為水平定位線;
S5.通過豎直定位線與水平定位線對目標的三維姿態(tài)進行定位;
其中,所述在微波暗室地面確定地面特征點,調(diào)整豎直十字線激光發(fā)射器,使其發(fā)射的激光十字線在地面的投影經(jīng)過地面特征點具體為:將三維直角坐標系中的(r,0,-h)點、(-r,0,-h)點、(0,r,-h)點、(0,-r,-h)點作為地面特征點;調(diào)整豎直十字線激光發(fā)射器,使其發(fā)射的激光十字線在地面的兩條投影線之一經(jīng)過(r,0,-h)點、(-r,0,-h)點,另一經(jīng)過(0,r,-h)點、(0,-r,-h)點;其中,h為基準點到地面的高度,r為預設(shè)距離,r<(R02-h2)1/2;
所述利用地面特征點調(diào)整水平十字線激光發(fā)射器,獲取其發(fā)射的激光十字線在處于X軸負向的微波暗室側(cè)面的投影具體為:調(diào)整水平十字線激光發(fā)射器,使其發(fā)射的激光十字線在處于X軸負向的微波暗室側(cè)面的兩條投影之一在地面的延伸線經(jīng)過(r,0,-h)點、(-r,0,-h)點;調(diào)整水平十字線激光發(fā)射器的俯仰角,使水平十字線激光發(fā)射器的中心指向基準點;獲取此時的激光十字線在處于X軸負向的微波暗室側(cè)面的兩條投影。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述微波暗室為圓柱連接半球的形狀;以及步驟S1具體為:
利用激光跟蹤儀采樣測量微波暗室圓柱面上離散點的位置信息,對所述位置信息進行擬合處理,得到圓柱面中心點的位置信息及圓柱面半徑,將該中心點作為微波暗室的基準點。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,步驟S2具體為:
以基準點為原點,基準點鉛垂向上方向為Z軸正向,圓柱軸線指向微波暗室出入口的方向為Y軸正向,按照右手定則建立三維直角坐標系。
4.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述將Z軸正向與微波暗室頂端的交點標記為豎直參考點,將X軸正向與微波暗室側(cè)面的交點標記為水平參考點具體為:
將三維直角坐標系中的(0,0,R0)點標記為豎直參考點,將(R0,0,0)點標記為水平參考點;其中,R0為圓柱面半徑。
5.如權(quán)利要求1-4任一所述的方法,其特征在于,步驟S5具體為:
調(diào)整目標的三維姿態(tài),使目標表面的標線與豎直定位線和/或水平定位線對齊,實現(xiàn)目標三維姿態(tài)的定位。
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