[發明專利]一種在鈦合金表面制備陶瓷膜/釉膜復合涂層的方法

有效

• 申請號: 201610364730.9
• 申請日: 2016-05-26
• 公開（公告）號: CN106011971B
• 公開（公告）日: 2018-04-27
• 發明（設計）人: 金杰
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: C25D11/26
• 分類號: C25D11/26;C23C28/04;C23D3/00;C23D5/02;C03C8/12
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務所有限公司33241
• 代理人: 王利強

1.一種在鈦合金表面制備陶瓷膜/釉膜復合涂層的方法，所述方法包括：

(1)在鈦合金表面進行微弧氧化，制備得到微弧氧化涂層；所述微弧氧化的電解液組成如下：8～10g/L Na₂SiO₃、2～3g/L Na₃PO₄、1～2g/L NaOH、3～4g/L檸檬酸鈉，溶劑為去離子水；所述微弧氧化參數如下：電壓350～380V，頻率500Hz，處理時間20～35min；

(2)將配制好的釉漿均勻噴涂在鈦合金的微弧氧化陶瓷涂層表面；配制釉漿所用釉料質量組成如下：SiO₂ 52～59％，PbO 16～19％，Al₂O₃ 3～8％，B₂O₃ 5～9％，Na₂O 3～7％，TiO₂ 3～5％，ZnO 7～9％；

(3)將噴涂好釉漿的合金工件置于干燥箱中，50～60℃下干燥20～30min，然后取出；

(4)將工件放置在等壓爐中，從常溫加熱到800～850℃，保溫2～3小時出爐，得到陶瓷膜/釉膜復合涂層。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于所述鈦合金為Ti6Al4V。

3.如權利要求1或2所述的方法，其特征在于所述鈦合金先經前處理之后再進行微弧氧化，所述前處理方法如下：鈦合金依次用180#、400#、600#、800#、1200#、1500#、2000#砂紙打磨，再用拋光機、拋光布結合1μm的氧化鋁拋光膏將鈦合金試樣拋光至Ra＝0.3μm。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于所述方法如下：

(1)Ti6Al4V鈦合金180#、400#、600#、800#、1200#、1500#、2000#砂紙打磨，再用拋光機、拋光布結合1μm的氧化鋁拋光膏將鈦合金試樣拋光至Ra＝0.3μm；

(2)在鈦合金表面進行微弧氧化，制備得到微弧氧化涂層；所述微弧氧化的電解液組成如下：8g/L Na₂SiO₃、2.5g/L Na₃PO₄、1.4g/L NaOH、3g/L檸檬酸鈉，溶劑為去離子水；所述微弧氧化參數如下：電壓360V，頻率500Hz，處理時間25min；

(3)將配制好的釉漿均勻噴涂在鈦合金的微弧氧化陶瓷涂層表面；配制釉漿所用釉料質量組成如下：SiO₂ 55％，PbO 18％，Al₂O₃ 5％，B₂O₃ 6％，Na₂O 4％，TiO₂ 4％，ZnO 8％；

(4)將噴涂好釉漿的合金試樣置于干燥箱中，50℃下干燥20min，然后取出；

(5)將工件放置在等壓爐中，從常溫加熱到830℃，保溫2小時出爐，得到陶瓷膜/釉膜復合涂層。