[發明專利]散射裝置及其制造方法及發光裝置、投影系統與照明系統

在審

• 申請號: 201610362446.8
• 申請日: 2016-05-27
• 公開（公告）號: CN107436525A
• 公開（公告）日: 2017-12-05
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 上海藍湖照明科技有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種散射裝置，其特征在于，包括：

透明無機物基底，包括相對的第一表面與第二表面，第二表面的至少部分為粗糙面，該粗糙面具有多個微型凹陷；

覆蓋所述粗糙面的過渡介質，包括相對的第三表面和第四表面，第三表面與所述粗糙面緊密接觸以形成過渡介質-基底界面，所述過渡介質的折射率滿足：

；或，

；

所述基底的微型凹陷的傾斜角為，所述基底的折射率為，所述過渡介質的折射率為。

2.根據權利要求1所述的散射裝置，其特征在于：，度，且。

3.根據權利要求1或2所述的散射裝置，其特征在于：所述過渡介質的第四表面為一平面或弧面。

4.根據權利要求1或2所述的散射裝置，其特征在于：所述透明無機物為玻璃，所述過渡介質為無機膠質或有機膠質。

5.一種發光裝置，其特征在于，包括發光源和如權利要求1至4中任一項所述的散射裝置；

所述發光源發出的光束入射于所述散射裝置，且該光束入射在所述散射裝置上的光斑覆蓋所述過渡介質。

6.一種投影系統，其特征在于，包括如權利要求5所述的發光裝置。

7.一種照明系統，其特征在于，包括如權利要求5所述的發光裝置。

8.一種散射裝置的制造方法，其特征在于，包括：

步驟一、提供一透明無機物基底，該基底包括相對的第一表面與第二表面，第二表面的至少部分為粗糙面，該粗糙面具有多個微型凹陷；

步驟二、在所述粗糙面上涂覆液態的過渡介質，使得該過渡介質覆蓋該粗糙面，以使得過渡介質包括第三表面，第三表面與所述粗糙面緊密接觸以形成過渡介質-基底界面，所述過渡介質的折射率滿足：

；或，

；

所述基底的微型凹陷的傾斜角為，所述基底的折射率為，所述過渡介質的折射率為；

步驟三、固化所述過渡介質。

9.根據權利要求8所述的制造方法，其特征在于，步驟二包括：采用旋涂法、提拉法或印刷法在所述粗糙面上涂覆液態的過渡介質。

10.根據權利要求8或9所述的制造方法，其特征在于：在步驟二與步驟三之間還包括：將所述基底的第二表面向上且平置，使所述液態的過渡介質在重力作用下流平。