[發明專利]一種用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶有效
| 申請號： | 201610360061.8 | 申請日： | 2016-05-27 |
| 公開（公告）號： | CN106399958B | 公開（公告）日： | 2019-01-22 |
| 發明（設計）人： | 佘鵬程;彭立波;陳長平;張賽;龔俊 | 申請（專利權）人： | 中國電子科技集團公司第四十八研究所 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周長清;戴玲 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 金屬 鍍膜 矩形 磁控濺射 | ||
【權利要求書】：
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