[發(fā)明專利]近端治療裝置及其放射源有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610357520.7 | 申請(qǐng)日： | 2016-05-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107432992B | 公開（公告）日： | 2019-08-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鄭文源 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 和鑫生技開發(fā)股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | A61N5/10 | 分類號(hào)： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 上海翼勝專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 中國臺(tái)灣新北*** | 國省代碼： | 中國臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 治療 裝置 及其 放射源 | ||
1.一種近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述近端治療裝置的放射源包括：
一陰極組件，被構(gòu)造以發(fā)射一電子束，并且包括：
一熱陰極，被加溫以產(chǎn)生游離電子，所述游離電子受一加速電場(chǎng)的作用而射向一陽極組件而形成一電子束；
一聚焦元件，部分圍繞所述熱陰極，并具有一聚焦電場(chǎng)，所述電子束通過所述聚焦電場(chǎng)而縮小所述電子束的直徑；
所述陽極組件，被構(gòu)造以接收所述電子束而產(chǎn)生放射，并且包括：
一陽極管柱，被構(gòu)造以接觸或進(jìn)入一病變處或是進(jìn)入一施用器的內(nèi)腔中；
一靶元件，位于所述陽極管柱的末端，被所述電子束撞擊而產(chǎn)生所述放射；
一電源被構(gòu)造以驅(qū)動(dòng)所述熱陰極產(chǎn)生所述游離電子，提供偏壓于所述聚焦元件而產(chǎn)生所述聚焦電場(chǎng)，以及提供電壓于所述陰極組件與所述陽極組件以在所述陰極組件與所述陽極組件之間產(chǎn)生所述加速電場(chǎng)；
一殼體，被構(gòu)造以使所述陰極組件與陽極組件絕緣；以及
一控制模組，被構(gòu)造以控制施加于所述聚焦元件上的所述偏壓，以調(diào)整所述聚焦元件的聚焦電場(chǎng)，從而調(diào)整所述電子束的直徑大小。
2.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述靶元件所產(chǎn)生的放射直接穿透所述靶元件，且無經(jīng)過反射。
3.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述控制模組被構(gòu)造以控制所述電源所驅(qū)動(dòng)的管電流或是所述加速電場(chǎng)的電壓。
4.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述陰極組件與陽極組件分別在所述殼體的兩端。
5.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述聚焦元件為一杯型結(jié)構(gòu)、盆型結(jié)構(gòu)或管柱型結(jié)構(gòu)。
6.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述靶元件的材質(zhì)為金。
7.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述電子束的一管電流的范圍介于40uA至60uA之間，或所述偏壓的范圍介于0V至300V之間，或所述加速電場(chǎng)的范圍介于40kV至60kV之間。
8.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述陽極管柱的末端的材質(zhì)為一輻射可穿透的材質(zhì)。
9.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述殼體的材質(zhì)為陶瓷。
10.如權(quán)利要求1所述的近端治療裝置的放射源，其特征在于：所述熱陰極為一鎢絲。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于和鑫生技開發(fā)股份有限公司，未經(jīng)和鑫生技開發(fā)股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610357520.7/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
