[發(fā)明專利]石英腔體的清洗方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610356764.3
• 申請(qǐng)日: 2016-05-25
• 公開（公告）號(hào): CN107433274A
• 公開（公告）日: 2017-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張汝京;林志鑫;季文明;金嵩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號(hào): B08B9/08
• 分類號(hào): B08B9/08
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237
• 代理人: 金華

1.一種石英腔體的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括：

提供一清洗裝置；

將待清洗的石英腔體固定于所述清洗裝置上，并采用密封組件對(duì)連通石英腔體內(nèi)部和外部的開口或通氣孔進(jìn)行密封，以隔離所述石英腔體的內(nèi)部和外部；以及

采用清洗液分別對(duì)所述石英腔體的內(nèi)部和外部進(jìn)行清洗。

2.如權(quán)利要求1所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述密封組件包括一彈性密封蓋，在所述密封蓋內(nèi)部與所述石英腔體的開口或通氣孔上端接觸的部位設(shè)置有密封墊。

3.如權(quán)利要求2所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述密封墊的材質(zhì)為氟橡膠。

4.如權(quán)利要求1所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述清洗裝置包括基座、第一噴淋頭、第二噴淋頭和固定導(dǎo)槽；所述第一噴淋頭安裝于基座上，用于清洗石英腔體的內(nèi)部；在對(duì)石英腔體進(jìn)行清洗時(shí)，所述第二噴淋頭位于所述石英腔體的外部；所述固定導(dǎo)槽為與石英腔體的一開口相互卡合的凹槽結(jié)構(gòu)，所述固定導(dǎo)槽設(shè)置于基座上并圍繞所述第一噴淋頭。

5.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述清洗裝置還包括排液口，所述排液口設(shè)置于基座上。

6.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述第一噴淋頭的高度根據(jù)所述石英腔體的內(nèi)部高度進(jìn)行調(diào)節(jié)。

7.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述第一噴淋頭為旋轉(zhuǎn)噴淋頭，其旋轉(zhuǎn)速度為0～10rpm。

8.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述第一噴淋頭噴灑出的清洗液為硝酸、氫氟酸和水的混合液。

9.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述第二噴淋頭噴灑出的清洗液為去離子水。

10.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述第 一噴淋頭的噴灑角度范圍為90～180°。

11.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述第一噴淋頭噴和第二噴淋頭灑出的清洗液的溫度范圍均為20～50℃。

12.如權(quán)利要求4所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于：所述基座為可旋轉(zhuǎn)基座，其旋轉(zhuǎn)速度為0～10rpm。