[發明專利]掩膜板光罩、掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法

在審

• 申請號: 201610353518.2
• 申請日: 2016-05-25
• 公開（公告）號: CN105785711A
• 公開（公告）日: 2016-07-20
• 發明（設計）人: 唐軍
• 申請（專利權）人: 唐軍
• 主分類號: G03F1/80
• 分類號: G03F1/80
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228
• 代理人: 鄭學偉;葉利軍

技術領域

本發明涉及有機電致發光器件制造技術領域，特別涉及一種掩膜板光罩、 掩膜板光罩制作方法及掩膜板制作方法。

背景技術

有機電致發光二極管(OrganicLight-EmittingDiodes，OLED)是自發光 器件，不需要背光源，外觀輕、薄，而傳統的液晶顯示器(LCD)需要背光源 才能工作，外觀尺寸較厚。

有機發光二極管顯示器的功耗低，視角寬，屏幕響應快，是最能符合人 們未來對顯示器功能要求的技術。因此，有機發光二極管有望在不久的將來 取代液晶顯示器，具有很高的市場潛力。

有機小分子發光二極管在制作過程中，目前較成熟的技術是采用真空蒸 鍍技術，在器件制備過程中，有機材料會淀積在位于蒸發源上方的基板上， 為形成特有的圖案，在基板下方緊貼有掩膜板，掩膜板上留有預先設計排版 好的蒸鍍孔，最終有機材料會通過掩膜板上的蒸鍍孔淀積到基板上面。

掩膜板一般為一塊金屬基板，在金屬基板上開設有蒸鍍孔，有一些掩膜 板還包括板框，將金屬基板覆蓋的板框上。現有技術中，在掩膜板的制作中， 一般采用光蝕刻工藝在金屬基板上鏤空形成蒸鍍孔。然而，現有技術中的掩 膜板制作方法制作形成的掩膜板，其蒸鍍孔的尺寸精度低，而且，生產加工 的掩膜板不良率高。

發明內容

本發明旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此， 本發明的一個目的在于提出一種掩膜板光罩。

本發明的另一個目的在于提出一種掩膜板光罩制作方法。

本發明的又一個目的在于提出一種掩膜板制作方法。

為了實現上述目的，第一方面，本發明實施例的掩膜板光罩，適于采用 光蝕刻法在一金屬基板上蝕刻形成蒸鍍孔，包括：

透明基板，所述透明基板具有第一平面及與所述第一平面相背的第二平 面；

金屬膜片，所述金屬膜片平鋪于所述第一平面，且所述金屬膜片上形成 有多個鏤空孔，所述鏤空孔的尺寸與所述蒸鍍孔的預定尺寸相等。

根據本發明提供的掩膜板光罩，包括透鏡基板和金屬膜片，金屬膜片平 鋪于所述透明基板上，且金屬膜片上設有與蒸鍍孔相適配的鏤空孔，如此， 在利用該掩膜板光罩制作掩膜板時，直接將金屬基板與金屬膜片或透明基板 貼合，再利用光蝕刻工藝即可蝕刻出蒸鍍孔。由于金屬膜片和透鏡基板具有 較高的硬度和平面度，因此，能夠與金屬基板完全貼合，進而確保蝕刻形成 的蒸鍍孔尺寸和形狀的精度更高，此外，操作簡單，工藝過程更加簡單，效 率更高，形成的掩膜板產品的良率更高。

根據本發明的一個實施例，所述透明基板為玻璃板。

根據本發明的一個實施例，所述鏤空孔為多個，多個所述鏤空孔矩陣分 布。

第二方面，本發明實施例的掩膜板光罩的制作方法，所述掩膜板光罩適 于采用光蝕刻法在一金屬基板上蝕刻形成蒸鍍孔，包括：

提供一透明基板及一金屬膜片，透明基板具有第一平面及與所述第一平 面相背的第二平面；

在所述金屬膜片的上加工形成鏤空孔，所述鏤空孔具有加工余量；

將形成有鏤空孔的所述金屬膜片平鋪于所述透鏡基板的第一平面；

對所述金屬膜片上的所述鏤空孔進行精加工，使得所述鏤空孔的尺寸達 到所述蒸鍍孔的預定尺寸。

根據本發明提供的掩膜板光罩制作方法，可制作形成掩膜板光罩，該光 罩包括透鏡基板和金屬膜片，金屬膜片平鋪于所述透明基板上，且金屬膜片 上設有與蒸鍍孔相適配的鏤空孔，如此，在利用該掩膜板光罩制作掩膜板時， 直接將金屬基板與金屬膜片或透明基板貼合，再利用光蝕刻工藝即可蝕刻出 蒸鍍孔。由于金屬膜片和透鏡基板具有較高的硬度和平面度，因此，能夠與 金屬基板完全貼合，進而確保蝕刻形成的蒸鍍孔尺寸和形狀的精度更高，同 時，操作簡單，工藝過程更加簡單，效率更高，形成的掩膜板產品的良率更 高。此外，該方法制作的掩膜板光罩上，鏤空孔的尺寸精度高，進而使得利 用該掩膜板光罩制作形成掩膜板，其蒸鍍孔的尺寸精度更高。

根據本發明的一個實施例，在所述金屬膜片的上加工形成鏤空孔具體為：

采用蝕刻工藝在所述金屬膜片的上進行蝕刻加工以形成所述鏤空孔。

根據本發明的一個實施例，對所述金屬膜片上的鏤空孔進行精加工具體 為：

采用激光加工工藝對所述金屬膜片上的鏤空孔進行精加工。