[發(fā)明專利]一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610345875.4 | 申請日: | 2016-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN105869890B | 公開(公告)日: | 2018-01-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 苗滿香;孟建平;胡天彤 | 申請(專利權(quán))人: | 鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院 |
| 主分類號: | H01G4/33 | 分類號: | H01G4/33;C23C14/24;C23C14/20 |
| 代理公司: | 鄭州知己知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司41132 | 代理人: | 朱廣存 |
| 地址: | 450000 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬化 聚丙烯 薄膜 介質(zhì) 電容器 工藝 | ||
1.一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝,其特征在于:包括如下步驟:
1)聚丙烯薄膜層的表面處理:去離子水洗滌后,丙酮浸泡20-24小時去除油漬,80-85℃真空烘干,電暈處理;
2)蒸鍍材料的預(yù)處理:將Al、Zn和Zn-Mg合金分別粉碎、造粒;
3)蒸鍍:將步驟1)預(yù)處理的聚丙烯薄膜以真空蒸鍍的方式依次蒸鍍金屬Al層和Zn-Mg合金層作為電極的活動區(qū),所述活動區(qū)采用髙方阻梯形蒸鍍模式進行蒸鍍;所述活動區(qū)邊緣加厚蒸鍍有一層純Zn形成加厚區(qū),所述加厚區(qū)的寬度設(shè)置為聚丙烯薄膜寬度的1/4-1/3,所述加厚區(qū)金屬層厚度5-25納米;所述活動區(qū)蒸鍍梯形方電阻控制在10-20歐姆,所述加厚區(qū)方電阻控制在4-6歐姆;
所述活動區(qū)內(nèi)金屬鋁與鋅的重量比9:0.5-1.5。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝,其特征在于:所述步驟1)中的電暈處理的條件為:電極間隙1-2毫米;處理電壓:5000-15000伏;功率:200-2000瓦。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝,其特征在于:所述造粒得金屬顆粒的粒度為2-10納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝,其特征在于:所述Zn-Mg合金中金屬鋅與鎂的質(zhì)量比為9:0.5-1.5。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝,其特征在于:所述Zn-Mg合金層均勻分散蒸鍍在所述Al層上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝,其特征在于:所述活動區(qū)真空蒸鍍的真空度大于10-4Pa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬化聚丙烯薄膜介質(zhì)電容器的蒸鍍工藝,其特征在于:所述加厚區(qū)的蒸鍍方法為電子束蒸鍍法。
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