[發(fā)明專利]用于改善流動(dòng)均勻性的具有面板孔的低體積噴頭有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610345779.X | 申請(qǐng)日: | 2016-05-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106167895B | 公開(公告)日: | 2020-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 拉梅什·錢德拉塞卡拉;薩昂格魯特·桑普朗;尚卡爾·斯娃米納森;弗蘭克·L·帕斯夸里;康胡;阿德里安·拉瓦伊;愛德華·奧古斯提尼亞克;行則崎山;克洛伊·巴爾達(dá)賽羅尼;薩沙撒耶·瓦拉達(dá)拉簡(jiǎn);巴莎·薩賈德;詹妮弗·L·彼得拉利亞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 朗姆研究公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455;C23C16/50 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務(wù)所 31263 | 代理人: | 樊英如;張華 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 改善 流動(dòng) 均勻 具有 面板 體積 噴頭 | ||
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





