[發(fā)明專利]基于雙波面干涉條紋陣列大面積光學輪廓測量裝置和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610343470.7 | 申請日： | 2016-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN105865369B | 公開（公告）日： | 2019-03-15 |
| 發(fā)明（設計）人： | 余學才;肖景天;任華西;王曉龐 | 申請（專利權）人： | 電子科技大學 |
| 主分類號： | G01B11/24 | 分類號： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 成都宏順專利代理事務所(普通合伙) 51227 | 代理人： | 周永宏;王偉 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 雙波面 干涉 條紋 陣列 大面積 光學 輪廓 測量 裝置 方法 | ||
【權利要求書】：
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