[發(fā)明專利]高壓ESD保護(hù)電路有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610341917.7 | 申請日: | 2016-05-20 | 
| 公開(公告)號: | CN107403796B | 公開(公告)日: | 2020-02-07 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王俊;盧斌;劉森;郭之光 | 申請(專利權(quán))人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 | 
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02 | 
| 代理公司: | 31237 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 屈蘅;李時云 | 
| 地址: | 201203 *** | 國省代碼: | 上海;31 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高壓 esd 保護(hù) 電路 | ||
本發(fā)明提供一種高壓ESD保護(hù)電路,包括設(shè)置在高壓電源線和地線之間并依次耦接的偏置電路、ESD觸發(fā)電路以及ESD泄放電路,且所述偏置電路上設(shè)置有多個分壓節(jié)點(diǎn);所述ESD觸發(fā)電路主要由至少一個電阻和多個電容連接的RC延時網(wǎng)絡(luò)構(gòu)成,每個電容相應(yīng)地耦接至所述偏置電路的分壓節(jié)點(diǎn);所述ESD泄放電路主要由柵極耦接至所述RC延時網(wǎng)絡(luò)的LDMOS管構(gòu)成。該高壓ESD保護(hù)電路,結(jié)構(gòu)簡單,能夠兼容BCD工藝,且可靠性高。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路靜電保護(hù)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高壓ESD保護(hù)電路。
背景技術(shù)
隨著集成電路制造技術(shù)的發(fā)展,特征尺寸不斷縮小,使得ESD(Electro-staticDischarge,靜電釋放)對集成電路的影響也越來越大。根據(jù)統(tǒng)計(jì),集成電路1/3以上的失效是由ESD引起的,為了減少ESD對集成電路的不利影響,提高集成電路的可靠性和性能,最有效的方法就加入ESD保護(hù)電路。ESD保護(hù)電路能將高壓靜電轉(zhuǎn)化成瞬態(tài)低壓大電流,將電流泄放,從而達(dá)到保護(hù)集成電路的目的。因此,ESD保護(hù)電路的設(shè)計(jì)由于其自身工作電壓較高,在設(shè)計(jì)其性能的時候不僅要考慮ESD性能,還要考慮可靠性要求。目前常見的ESD保護(hù)電路中,會利用可控硅整流器件(SCR)作為ESD保護(hù)器件,或者利用輔助觸發(fā)電路觸發(fā)SCR的方式來實(shí)現(xiàn)ESD保護(hù)。例如,中國專利申請CN103378087A公開的靜電釋放保護(hù)結(jié)構(gòu),如圖1A所示,其阱區(qū)反摻雜區(qū)133—n阱121—p型襯底110—襯底反摻雜區(qū)134形成的橫向可控硅SCR,連通區(qū)135連通p型襯底110和n阱121,在p型襯底110和n阱121表面將n阱121延伸入p型襯底110內(nèi),形成單向二極管,當(dāng)靜電釋放發(fā)生時,陽極電勢升高,耗盡區(qū)在p型襯底110和n阱121內(nèi)形成,場板結(jié)構(gòu)161電性連接陰極作為電場板,p型襯底110表面的耗盡區(qū)寬度受到場板結(jié)構(gòu)161的寬度(即場板結(jié)構(gòu)161邊緣的位置)所限,隨著陽極電壓進(jìn)一步升高,電場強(qiáng)度逐漸增強(qiáng),直到達(dá)到單向二極管的雪崩擊穿電壓,此時大量的電子—空穴對產(chǎn)生,分別進(jìn)入n阱121和p型襯底110,使得可控硅SCR被觸發(fā),襯底反摻雜區(qū)134—p型襯底110—n阱121形成的NPN三極管,以及阱區(qū)反摻雜區(qū)133—n阱121—p型襯底110形成的PNP三極管均導(dǎo)通,形成靜電釋放通路,起到靜電釋放保護(hù)的作用。再例如,中國專利申請CN101789428A公開的內(nèi)嵌PMOS輔助觸發(fā)可控硅(SCR)器件,如圖1B所示,分別由第一P+注入?yún)^(qū)35a—N阱33和第二N+注入?yún)^(qū)34—P阱32和第二P+注入?yún)^(qū)35b—第三N+注入?yún)^(qū)37構(gòu)成可控硅SCR的P-N-P-N結(jié)構(gòu),由第一N+注入?yún)^(qū)34與第一P+注入?yún)^(qū)35a用金屬線相連接作為電學(xué)陽極,第三N+注入?yún)^(qū)37和第三P+注入?yún)^(qū)38作為電學(xué)陰極,PMOS柵極外接RC觸發(fā)電路,RC時間常數(shù)約為1us,以保證PMOS足夠開啟時間來輔助觸發(fā)SCR泄放ESD電流,同時正常上電時不會開啟。當(dāng)陽極出現(xiàn)ESD信號時,較大的電壓能導(dǎo)致N阱,第二N+注入?yún)^(qū)與P阱的PN結(jié)雪崩擊穿,產(chǎn)生的雪崩電流流過P阱的阱電阻R_pwell產(chǎn)生壓降,當(dāng)這個壓降大于寄生NPN三極管的開啟電壓,NPN寄生三極管開啟,同時由于正反饋使PNP寄生三極管也開啟,整個SCR器件被導(dǎo)通,開始泄放ESD電流,同時將SCR兩端電壓鉗制在較低電位,第二N+注入?yún)^(qū)的設(shè)置能夠?qū)崿F(xiàn)P阱/N+結(jié)較低的擊穿電壓,并聯(lián)的PMOS結(jié)構(gòu)由于陽極(即PMOS源極)出現(xiàn)的ESD高電位和柵極RC延遲造成的低電位形成電壓差而開啟,輔助電流由N阱流入P阱,PMOS引起的電流通過P阱電阻產(chǎn)生壓降,從而輔助SCR開啟。
上述的這些利用SCR觸發(fā)的ESD保護(hù)器件,存在以下缺陷:
1)這些ESD保護(hù)器件雖然有結(jié)構(gòu)面積小,泄放能力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn),但是本身由于使用一些寄生的路徑和結(jié)構(gòu),其兼容性和可靠性方面往往很難驗(yàn)證;
2)觸發(fā)電路也要采用非正常的制造方式,其觸發(fā)電路的可靠性也有待驗(yàn)證。
3)同時也存在難控制的閂鎖效應(yīng)(latch-up)風(fēng)險。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





