[發明專利]液晶涂布裝置

在審

• 申請號: 201610338736.9
• 申請日: 2016-05-19
• 公開（公告）號: CN105785669A
• 公開（公告）日: 2016-07-20
• 發明（設計）人: 謝克成
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1341
• 分類號: G02F1/1341
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種液晶涂布裝置。

背景技術

TFT(薄膜晶體管)顯示器件的制作非常復雜，需要經過陣列基板制 作，彩膜基板制作，以及在陣列基板上滴入液晶，在彩膜基板上涂布框膠， 并將完成以上工序的陣列基板和彩膜基板對組，經過固烤，切割等工序完成 TFT顯示器件的整個制作。在制作過程中有一道工序為：在陣列基板或彩膜 基板上滴入液晶的工序，簡稱：ODF(滴下式注入)工序或灌晶工序。

目前業界基本上采用ODF技術，即用單一的液晶滴頭，按照陣列基板產 品的排布將液晶一滴一滴地滴入到基板上。參見圖1至圖3，圖1為現有液 晶涂布裝置進行ODF工序的示意圖，圖2為經ODF工序涂布的基板，圖3 為現有液晶涂布裝置的液晶滴頭的剖面示意圖?，F有液晶涂布裝置主要包括 液晶滴頭12及透明材料制成的護罩13，其他諸如液晶容器等常規組件在此 不再贅述。圖3顯示了現有的液晶滴頭12內部的導流管121為柱型導流管。 圖1顯示了現有液晶涂布裝置對工作臺10上的基板11進行涂布的情況，基 板11上具有已經滴下的液晶15，液晶滴頭12下方為正在滴下的液晶14。

應用現有液晶涂布裝置進行ODF工序時，需要液晶滴頭在基板上來回很 多次才能完成一張基板的滴下制作，制作時間很長，就算是增加液晶滴頭數 量與提高液晶滴頭移動速度，同樣不能減少作業時間。而且隨著基板尺寸的 加大，特別使用光配相液晶，滴有液晶的基板在對組前暴露于空氣中，因液 晶分子與PI(聚酰亞胺)分子相對空氣中的水汽與CO₂氣體的吸收程度不一 樣，導致對組后液晶屏中液晶的閾值電壓不一樣，容易產生滴落顯示不均勻 (Dropmura)現象。如下為LCD的閾值電壓V_th公式：

Vth2=1ϵ0×Δϵ(K11π2+(K33-2K22)Φ02)]]>

式中：Φ₀為扭曲角；K₁₁、K₂₂、K₃₃為液晶材料的3種形變彈性常數；Δε 為液晶材料的介電各向異性；ε₀為真空介電常數。

從以上公式可以看出：液晶彈性常數受到空氣中的水汽與CO₂氣體的影 響而發生變化。從而影響LCD的閾值電壓V_th。

目前的解決方法是嚴格管控ODF制程溫濕度，以及液晶滴下到產品對組 階段的停留時間。但是該方法對產品量產性有較大的影響，且不能完全杜絕 Dropmura不良的發生。

發明內容

因此，本發明的目的在于提供一種液晶涂布裝置，杜絕Dropmura不良 的發生，并且提高單片液晶滴下的速度。

為實現上述目的，本發明提供一種液晶涂布裝置，包括多個密集排列的 液晶滴頭，所述液晶滴頭內部供液晶流經的導流管口徑在液晶流出側變大， 所述液晶滴頭具有用于加熱流經液晶的加熱裝置以控制流出液晶的溫度。

其中，所述導流管為T型導流管。

其中，所述加熱裝置設在液晶滴頭的側壁內。

其中，所述液晶滴頭設置為平坦化涂布流出的液晶。

其中，所述液晶滴頭呈單行間隔排列。