[發明專利]基于激光刻蝕空氣柱二維光子晶體的制備方法有效
| 申請號： | 201610338171.4 | 申請日： | 2016-05-20 |
| 公開（公告）號： | CN105891949B | 公開（公告）日： | 2019-03-29 |
| 發明（設計）人： | 張方方;李冬梅;楊偉光;黃璐;沈春夏;馬磊;劉功龍;史偉民 | 申請（專利權）人： | 上海大學 |
| 主分類號： | G02B6/122 | 分類號： | G02B6/122 |
| 代理公司： | 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顧勇華 |
| 地址： | 200444*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 激光 刻蝕 空氣 二維 光子 晶體 制備 方法 | ||
【說明書】：
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