[發明專利]一種高強度雙層減反膜的制備方法有效
| 申請號: | 201610333647.5 | 申請日: | 2016-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN105789340B | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | 秦崇德;方結彬;石強;黃玉平;何達能;陳剛 | 申請(專利權)人: | 廣東愛康太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 佛山市中迪知識產權代理事務所(普通合伙)44283 | 代理人: | 張伶俐 |
| 地址: | 528100 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 強度 雙層 減反膜 制備 方法 | ||
1.一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)氧化鈦溶膠的制備:取鈦酸丁脂、乙酰丙酮、乙醇、醋酸和去離子水按照摩爾比為1:1:50:2:3的比例混合,采用離心攪拌機攪拌均勻,置于室溫下老化120-168小時后,得氧化鈦溶膠,備用;
2)氧化硅溶膠的制備:取正硅酸乙脂、去離子水、鹽酸標準溶液、乙醇按照摩爾比為1:2:0.5:40的比例混合,采用離心攪拌機攪拌均勻,在溫度為20℃,相對濕度為30%,靜置168小時,得氧化硅溶膠,備用;
3)玻璃片的準備:將鍍膜用玻璃片依次用去離子水和酒精沖洗干凈后,用氮氣吹干;
4)鍍雙層減反膜:在相對濕度<50%時,采用提拉鍍膜法將步驟1)所得氧化鈦溶膠鍍在步驟3)中清洗后玻璃片的兩面,在玻璃片的正反面各形成一層氧化鈦薄膜,氧化鈦薄膜的厚度為110-130nm,再將步驟2)所得氧化硅溶膠,通過提拉鍍膜法鍍在氧化鈦薄膜的外側,在氧化鈦薄膜的表面形成一層氧化硅薄膜,氧化硅薄膜的厚度為90-110nm;
5)烘干、成品:將步驟4)所得鍍雙層膜的玻璃片,置于烘箱中烘干,即得成品。
2.根據權利要求1所述的一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,所述步驟1)和步驟2)中的乙醇均為無水乙醇。
3.根據權利要求1所述的一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中鹽酸標準溶液的pH=1。
4.根據權利要求1所述的一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,所述步驟1)中離心攪拌機的轉速為12000-16000rpm,攪拌時間為3-5min。
5.根據權利要求1或4所述的一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中離心攪拌機的轉速為12000-16000rpm,攪拌時間為3-5min。
6.根據權利要求1所述的一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,所述步驟4)中采用提拉鍍膜法時的提拉速度為6-12inch/min。
7.根據權利要求1所述的一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,所述步驟4)中氧化鈦薄膜折射率為1.94-1.96;
所述氧化硅薄膜折射率為1.41-1.43。
8.根據權利要求1所述的一種高強度雙層減反膜的制備方法,其特征在于,所述步驟5)中,烘箱內溫度為200-250℃,烘烤時間為50-70min。
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





