[發明專利]一種金屬掩膜板的制備方法在審
| 申請號： | 201610333212.0 | 申請日： | 2016-05-18 |
| 公開（公告）號： | CN107419216A | 公開（公告）日： | 2017-12-01 |
| 發明（設計）人： | 王國兵 | 申請（專利權）人： | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;H01L21/027;G03F1/00 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所31272 | 代理人： | 俞滌炯 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 金屬 掩膜板 制備 方法 | ||
1.一種金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，包括：
提供一襯底；
于所述襯底上形成一層有機膜；
于所述有機膜之上形成具有若干開口的光阻層，且所述開口暴露所述有機膜的部分表面；
于所述光阻層上形成一層金屬膜，所述金屬膜覆蓋所述光阻層的上表面并填充所述開口；
移除位于所述光阻層之上的所述金屬膜；
將所述金屬膜與所述有機膜、所述光阻層分離，以形成所述金屬掩膜板。
2.如權利要求1所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，所述有機膜的材質為聚酰亞胺。
3.如權利要求1所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，所述于所述有機膜之上形成具有若干開口的光阻層，且所述開口暴露所述有機膜的部分表面的步驟包括：
于所述有機膜之上形成一光阻層；
圖案化所述光阻層，形成具有若干開口的光阻層，所述開口暴露所述有機膜的部分表面；
對所述光阻層進行硬化。
4.如權利要求1所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，所述金屬膜為Ni-Fe合金。
5.如權利要求1所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，采用物理氣相沉積的方法形成所述金屬膜。
6.如權利要求1所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，采用研磨的方法移除位于所述光阻層之上的所述金屬膜。
7.如權利要求1所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，所述將所述金屬膜與所述有機膜、所述光阻層分離，以形成所述金屬掩膜板的步驟包括：
將所述有機膜、所述金屬膜和所述光阻層從所述襯底上剝離；
將所述有機膜和所述光阻層剝離去除，所述金屬膜形成所述金屬掩膜板。
8.如權利要求7所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，采用激光束將所述有機膜、所述金屬膜和所述光阻層從所述襯底上剝離。
9.如權利要求7所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，采用剝離液將所述有機膜和所述光阻層剝離去除，所述金屬膜形成所述金屬掩膜板。
10.如權利要求9所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，所述剝離液為堿性液體。
11.如權利要求1所述的金屬掩膜板的制備方法，其特征在于，所述金屬掩膜板為精密金屬掩膜板。
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