[發明專利]蒸鍍裝置及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201610331712.0
• 申請日: 2016-05-18
• 公開（公告）號: CN105960072B
• 公開（公告）日: 2017-12-15
• 發明（設計）人: 蕭智鴻
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006
• 代理人: 梁揮,鮑俊萍

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包含：

一支撐件，用以支撐一基板；

一蒸鍍源，用以蒸鍍一蒸鍍材料，使該蒸鍍材料沉積于該基板上；

一第一傳感器，用以于多個檢測位置檢測該蒸鍍材料的多個蒸鍍速率；

一計算單元，用以依據于該些檢測位置所檢測到該蒸鍍材料的該些蒸鍍速率，估計一蒸鍍角；以及

一動作器，用以依據該估計的蒸鍍角，來移動該蒸鍍源；

其中，該計算單元包含一比較單元，用以將所檢測到的該些蒸鍍速率與多個參考蒸鍍速率分別進行比較，該動作器是用以依據所檢測到的該些蒸鍍速率與該些參考蒸鍍速率之間的多個差值而移動該蒸鍍源。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，該蒸鍍材料沉積于該基板的一表面上，該檢測線垂直于該基板的該表面。

3.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該蒸鍍源具有一開口，該蒸鍍材料從該開口噴出，且該檢測線于一投影平面上的投影與該蒸鍍源的該開口于該投影平面上的投影分離，該投影平面平行于該基板的該表面。

4.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，該蒸鍍材料沉積于該基板的一表面上，該檢測線平行于該基板的該表面。

5.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，且該第一傳感器是沿著該檢測線可動的。

6.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，且該檢測線是直的。

7.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，該蒸鍍材料沉積于該基板的一表面上，且該檢測線相對于垂直該基板的該表面的法線方向傾斜。

8.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，且該檢測線是彎曲的。

9.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，更包含：

一腔體，用以容納該支撐件、該蒸鍍源以及該第一傳感器，其中該支撐件鄰近該腔體的一壁面，且該些檢測位置位于該蒸鍍源以及該腔體的該壁面之間。

10.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，更包含：

一第二傳感器，用以于一預定位置檢測該蒸鍍材料的一監察蒸鍍速率；以及

一控制單元，用以依據該監察蒸鍍速率來控制該蒸鍍源的溫度。

11.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該蒸鍍材料沉積于該基板的一表面上，該蒸鍍源在垂直于該基板的該表面的方向上是可動的。

12.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，該蒸鍍材料沉積于該基板的一表面上，該蒸鍍源在平行于該基板的該表面的方向上是可動的。

13.一種蒸鍍方法，其特征在于，包含：

借由一蒸鍍源蒸鍍一蒸鍍材料，使該蒸鍍材料沉積于一基板上；

于多個檢測位置檢測該蒸鍍材料的多個蒸鍍速率；

依據于該些檢測位置所檢測到的該蒸鍍材料的該些蒸鍍速率，估計一蒸鍍角；以及

依據該估計的蒸鍍角，移動該蒸鍍源；

其中，估計該蒸鍍角的步驟包含將所檢測到的該些蒸鍍速率與多個參考蒸鍍速率分別進行比較，且移動該蒸鍍源的步驟包含依據所檢測到的該些蒸鍍速率與該些參考蒸鍍速率之間的多個差值而移動該蒸鍍源。

14.根據權利要求13所述的蒸鍍方法，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，該蒸鍍材料沉積于該基板的一表面上，且該檢測線垂直于該基板的該表面。

15.根據權利要求14所述的蒸鍍方法，其特征在于，該蒸鍍源具有一開口，該蒸鍍材料從該開口噴出，且該檢測線于一投影平面上的投影與該蒸鍍源的該開口于該投影平面上的投影分離，該投影平面平行于該基板的該表面。

16.根據權利要求13所述的蒸鍍方法，其特征在于，該些檢測位置設置于一檢測線，該蒸鍍材料沉積于該基板的一表面上，且該檢測線平行于該基板的該表面。