[發(fā)明專利]單基板顯示面板及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610329868.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105785627A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王東升;董友梅;李文波;武延兵 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1334 | 分類號(hào): | G02F1/1334;G02F1/1343;G02F1/1333;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 黃燦;張博 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 單基板 顯示 面板 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明為申請(qǐng)日為2012年06月21日,申請(qǐng)?zhí)枮?01210211779.2,發(fā)明 名稱為“單基板顯示面板及其制造方法”的發(fā)明的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域,特別是指一種單基板顯示面板及其制造方法。
背景技術(shù)
當(dāng)前,液晶顯示器已取代陰極射線管(CathodeRayTube,CRT)顯示器,在 各類信息顯示設(shè)備中得到廣泛的應(yīng)用。
現(xiàn)有的液晶顯示面板一般包括薄膜晶體管陣列基板和彩膜基板兩個(gè)基板, 兩個(gè)基板之間填充液晶材質(zhì),通過(guò)陣列基板控制液晶的偏轉(zhuǎn)方向,進(jìn)而使得其 可以顯示圖像。由于現(xiàn)有的液晶顯示面板均具有兩個(gè)基板,使得液晶顯示面板 的重量和厚度都比較大,不能滿足人們對(duì)于更輕薄的液晶顯示器的需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種單基板顯示面板及其制造方法,能夠 實(shí)現(xiàn)單基板顯示,從而減小液晶顯示面板的重量和厚度,簡(jiǎn)化液晶顯示面板的 制造工藝,降低成本,改善顯示效果。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明的實(shí)施例提供技術(shù)方案如下:
本發(fā)明一方面提供一種單基板顯示面板,包括:平行電場(chǎng)基板,及位于平 行電場(chǎng)基板上方的顯示介質(zhì)層。
進(jìn)一步的,所述顯示介質(zhì)層包括液晶分子和基質(zhì),其中基質(zhì)包裹對(duì)液晶分 子形成液晶團(tuán)。
進(jìn)一步的,所述液晶分子在無(wú)電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)不偏轉(zhuǎn)形態(tài)下的常態(tài)折射率no與 所述基質(zhì)的折射率np相匹配;或者所述液晶分子在受到電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)而偏轉(zhuǎn)形態(tài) 下的非常態(tài)光折射率ne與所述基質(zhì)的折射率np相匹配。
進(jìn)一步的,所述基質(zhì)包括聚合物。
進(jìn)一步的,所述基質(zhì)包括具有剛性結(jié)構(gòu)的液晶性聚合物。
進(jìn)一步的,所述液晶性聚合物在顯示介質(zhì)層中所占的重量百分比為1-5%。
進(jìn)一步的,所述顯示介質(zhì)層還包括光引發(fā)材料或熱引發(fā)材料。
進(jìn)一步的,所述顯示介質(zhì)層還包括支撐物。
進(jìn)一步的,所述支撐物在顯示介質(zhì)層中所占的重量百分比為0.01-5%。
進(jìn)一步的,所述支撐物在顯示介質(zhì)層中所占的重量百分比為0.1-1%。
進(jìn)一步的,所述顯示介質(zhì)層上方形成有防水絕氧的上偏振片。
進(jìn)一步的,所述顯示介質(zhì)層上方形成有保護(hù)層。
進(jìn)一步的,所述保護(hù)層為保護(hù)膠,或?yàn)檎辰Y(jié)劑及在粘接劑上貼附的保護(hù)膜。
進(jìn)一步的,所述平行電場(chǎng)基板包括形成在其下方、上方或中間層的濾色層。
進(jìn)一步的,所述平行電場(chǎng)基板包括形成在其下方、上方或中間層的下偏振 片。
本發(fā)明另一方面提供一種單基板顯示面板的制造方法,包括:提供平行電 場(chǎng)基板;及在平行電場(chǎng)基板上方形成顯示介質(zhì)層。
進(jìn)一步的,所述在平行電場(chǎng)基板上方形成顯示介質(zhì)層包括:在平行電場(chǎng)基 板上涂覆至少包括有液晶分子、單體的復(fù)合材料;對(duì)涂覆的復(fù)合材料進(jìn)行固化, 形成顯示介質(zhì)層。
進(jìn)一步的,所述在平行電場(chǎng)基板上方形成的顯示介質(zhì)層包括:在平行電場(chǎng) 基板上涂覆包括有液晶分子、單體的復(fù)合材料;將輔助基板與涂覆有復(fù)合材料 的基板進(jìn)行貼覆,對(duì)兩基板之間的復(fù)合材料進(jìn)行固化,形成顯示介質(zhì)層;剝離 所述輔助基板。
進(jìn)一步的,所述涂覆的復(fù)合材料中的單體所占復(fù)合材料的重量百分比為 1-5%。
進(jìn)一步的,所述涂覆的復(fù)合材料中的單體為剛性結(jié)構(gòu)的液晶性單體,剛性 結(jié)構(gòu)的液晶性單體占所述復(fù)合材料的重量百分比為1-5%。
進(jìn)一步的,所述平行電場(chǎng)基板上涂覆的復(fù)合材料中還包括光引發(fā)材料或熱 引發(fā)材料;所述對(duì)復(fù)合材料進(jìn)行固化具體為光照或加熱方式進(jìn)行固化。
進(jìn)一步的,所述涂覆的復(fù)合材料中的光引發(fā)材料或熱引發(fā)材料在復(fù)合材料 中所占的重量百分比為0.01%-20%。
進(jìn)一步的,所述涂覆的復(fù)合材料中的光引發(fā)材料或熱引發(fā)材料在復(fù)合材料 中所占的重量百分比為5-10%。
進(jìn)一步的,所述平行電場(chǎng)基板上涂覆的復(fù)合材料中還包括支撐物。
進(jìn)一步的,所述涂覆的復(fù)合材料中的支撐物在復(fù)合材料中所占的重量百分 比為0.01-5%。
進(jìn)一步的,還包括在所述顯示介質(zhì)層上方形成保護(hù)層。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





