[發(fā)明專利]一種光纖干涉儀臂長差的測量裝置及測量方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610329545.6 | 申請日: | 2016-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN105865753B | 公開(公告)日: | 2018-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊軍;王建國;侯長波;苑勇貴;彭峰 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工程大學(xué) |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區(qū)*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光纖 干涉儀 臂長差 測量 裝置 測量方法 | ||
1.一種光纖干涉儀臂長差的測量裝置,包括激光光源模塊(10)、被測光纖干涉儀模塊(20)、參考干涉儀模塊(30)和采集與控制模塊(40);其特征是:
所述的激光光源模塊由可調(diào)諧激光光源(101)和與之相連的第一光隔離器(103)和1×2光纖耦合器(104)、分布式反饋激光器(102)和與之相連的第二光隔離器(103’)構(gòu)成;
所述的參考干涉儀模塊(30)包括第一2×2光纖耦合器(301)、第二2×2光纖耦合器(301’)、第一光開關(guān)(302)、第二光開關(guān)(302’)、光纖環(huán)形器(303)、自聚焦透鏡(304)、可移動反射鏡(305)、第二繞好光纖的壓電陶瓷(306)、第二模擬量輸出板卡(307)和平衡光電探測器(308);第一2×2光纖耦合器(301)的第一端口(301a)與1×2光纖耦合器(104)的第三端口(104c)相連、第二端口(301b)與第二光隔離器(103’)的輸出端相連、第三端口(301c)連接第一光開關(guān)(302)的單通道端、第四端口(301d)連接光纖環(huán)形器(303)的輸入端;第一光開關(guān)(302)的多通道端的三個(gè)通道分別與第二光開關(guān)(302’)的多通道端對應(yīng)三個(gè)通道連接,第二光開關(guān)(302’)的單通道端與第二2×2光纖耦合器(301’)的第一端口(301’a)相連,構(gòu)成參考干涉儀一臂;光纖環(huán)形器(303)的反射端與自聚焦透鏡(304)相連,光纖環(huán)形器(303)出射端與第二繞好光纖的壓電陶瓷(306)的光纖輸入端相連,第二繞好光纖的壓電陶瓷(306)的光纖輸出端與第二2×2光纖耦合器(301’)的第二端口(301’b)相連;第二2×2光纖耦合器(301’)的第三端口(301’c)和第四端口(301’d)分別連接平衡光電探測器(308)的兩個(gè)光信號輸入端;
所述的被測光纖干涉儀模塊(20)包括被測光纖干涉儀(201)和光電探測器(202),被測光纖干涉儀一臂連接第一繞好光纖的壓電陶瓷(201a),第一繞好光纖的壓電陶瓷(201a)由第一模擬量輸出板卡(201b)驅(qū)動;
光電探測器(202)和平衡光電探測器(308)的輸出由采集與控制模塊(40)采集。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光纖干涉儀臂長差的測量裝置,其特征是:所述的分布式反饋激光器(102)內(nèi)置布拉格光柵。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光纖干涉儀臂長差的測量裝置,其特征是:第一光隔離器(103)和第二光隔離器(103’)具有單向通光性。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光纖干涉儀臂長差的測量裝置,其特征是:所述的光電探測器(202)是光電倍增管或者光電二極管,截止頻率高于從被測光纖干涉儀(201)輸出光信號的差頻;平衡光電探測器(308)由兩個(gè)匹配的光電二極管和一個(gè)放大器構(gòu)成,輸出電流強(qiáng)度與兩個(gè)端口輸入光信號強(qiáng)度的差值成比例。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光纖干涉儀臂長差的測量裝置,其特征是:第一2×2光纖耦合器(301)和第二2×2光纖耦合器(301’)的分光比都為50:50,1×2光纖耦合器(104)為3dB光纖耦合器。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光纖干涉儀臂長差的測量裝置,其特征是:所述的第二繞好光纖的壓電陶瓷(306)和第一繞好光纖的壓電陶瓷(201a)由計(jì)算機(jī)(401)控制第一、第二模擬量輸出板卡(307和201b)驅(qū)動,驅(qū)動信號使用正弦波形。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工程大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工程大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610329545.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





