[發(fā)明專利]單晶硅雙面太陽電池及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610328025.3 | 申請日: | 2016-05-17 |
| 公開(公告)號: | CN105826411B | 公開(公告)日: | 2017-12-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 盛赟;陳奕峰;崔艷峰;袁聲召;端偉元;王子港 | 申請(專利權)人: | 常州天合光能有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0236 | 分類號: | H01L31/0236;H01L31/18 |
| 代理公司: | 浙江永鼎律師事務所33233 | 代理人: | 郭小麗 |
| 地址: | 213031 江蘇省常*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單晶硅 雙面 太陽電池 及其 制備 方法 | ||
1.單晶硅雙面太陽電池,在單晶硅襯底(100)的正面依次形成正面制絨形貌結構(1)、正面PN發(fā)射結(2)、正面鈍化減反介質層(3)以及正面電極(4),在單晶硅襯底的背面依次形成背面制絨形貌結構(5)、背表面場(6)、背面鈍化減反介質層(7)以及背面電極(8),其特征在于:所述背面制絨形貌結構(5)為平臺形絨面,各平臺結構(5a)分散,或者,平鋪,或者,部分分散、部分平鋪、部分相連、部分交疊地分布在硅襯底上;所述平臺結構(5a)具有與硅襯底(100)相連接的下平面及下平面相對的上平面,下平面的尺寸大于上平面;所述上平面的邊長為2至10μm,平臺結構(5a)的高度為1至8μm。
2.根據(jù)權利要求1所述的單晶硅雙面太陽電池,其特征在于:所述正面鈍化減反介質層(3)和背面鈍化減反介質層(7)分別為由氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化鋁、碳化硅、非晶硅、微晶硅、氧化銦錫或者氧化鈦為材料組成的單層膜或多層膜。
3.根據(jù)權利要求1所述的單晶硅雙面太陽電池,其特征在于:所述正面電極(104)、背面電極(108)為銀、鋁、銅、鎳、鈦、錫、鉛、鎘、金、鋅的一種或多種金屬或其合金。
4.一種單晶硅雙面太陽電池的制備方法,用于制備權利要求1-3任一所述單晶硅雙面太陽電池,包括如下步驟:
S1:在單晶硅襯底表面制絨;
S2:正面摻雜形成發(fā)射結;
S3:去除背面含雜質玻璃層;
S4:濕化學法制備背面平臺結構,并去除背面摻雜層;
S5:背面摻雜形成背表面場;
S6:制備正面、背面鈍化減反介質層;
S7:制備正面、背面電極。
5.根據(jù)權利要求4所述的單晶硅雙面太陽電池的制備方法,其特征在于:在步驟S4中,濕化學法制備背面平臺結構所采用的化學藥劑有氫氧化鈉、氫氧化鉀、四甲基氫氧化銨、硝酸、磷酸、氫氟酸、乙醇、異丙醇或乙二醇中的一種或兩種以上混合的水溶液;制備溫度是60至80℃,時間是10-900秒。
6.根據(jù)權利要求4所述的單晶硅雙面太陽電池的制備方法,其特征在于:在步驟S2和S3之間,還包括如下步驟:
S2-1:正面沉積阻擋層:采用PECVD在正面沉淀氧化硅薄膜的工藝阻擋層,厚度是50至300nm。
7.根據(jù)權利要求4所述的單晶硅雙面太陽電池的制備方法,其特征在于:在步驟S5和S6之間,還包括如下步驟:
S5-1:使用氫氟酸去除正面的氧化硅、磷硅玻璃和背面的硼硅玻璃。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





