[發(fā)明專利]一種用輝光放電氟化處理盆式絕緣子表面的裝置和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610325824.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-05-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105913984B | 公開(公告)日: | 2017-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙軍平;杜乾棟;馬徑坦;文韜;張喬根;劉軒東;龐磊;李曉昂;吳治誠(chéng);崔博源;何潔;陳允;張鵬飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué);國(guó)家電網(wǎng)公司;中國(guó)電力科學(xué)研究院;國(guó)網(wǎng)山東省電力公司檢修公司 |
| 主分類號(hào): | H01B19/04 | 分類號(hào): | H01B19/04 |
| 代理公司: | 北京華創(chuàng)博為知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11551 | 代理人: | 張波濤,管瑩 |
| 地址: | 710049 *** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 輝光 放電 氟化 處理 絕緣子 表面 裝置 方法 | ||
1.一種使用輝光放電氟化處理盆式絕緣子表面的裝置,其特征在于,所述裝置包括:密封腔體、真空泵、電極和SF6氣瓶;
所述密封腔體、真空泵和SF6氣瓶通過三通轉(zhuǎn)接口相連;
所述真空泵用于對(duì)密封腔體進(jìn)行抽真空處理;
所述SF6氣瓶用于對(duì)密封腔體充入SF6氣體;
所述電極位于密封腔體內(nèi);
所述裝置還包括有真空計(jì),所述真空計(jì)用于測(cè)量密封腔體內(nèi)的氣壓;
所述密封腔體包括上下法蘭,所述上下法蘭通過緊固部件緊固;所述密封腔體側(cè)面開有觀察窗,所述觀察窗用于觀察氣體輝光放電時(shí)密封腔體內(nèi)部的情況。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述電極包括高壓電極和低壓電極;所述盆式絕緣子位于高壓電極與低壓電極之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述密封腔體采用金屬材料制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述裝置還包括有回收單元,所述回收單元、密封腔體和SF6氣瓶通過三通轉(zhuǎn)接口相連;所述回收裝置用于回收密封腔體內(nèi)的SF6廢氣。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其特征在于:所述SF6氣瓶、真空泵和回收單元與三通連接口之間均設(shè)置有閥門。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于:所述裝置還包括有交流電源和電流表,所述交流電源串聯(lián)電流表后與高壓電極、低壓電極相連接。
7.一種利用輝光放電氟化處理盆式絕緣子表面的方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
S1、對(duì)盆式絕緣子進(jìn)行處理后,將盆式絕緣子安裝在密封腔體的高壓電極、低壓電極之間,并調(diào)節(jié)電極間距,使得兩電極和盆式絕緣子緊密接觸,無間隙存在;
S2、利用真空泵對(duì)密封腔體抽真空,然后向密封腔體內(nèi)充入SF6氣體達(dá)到1-200pa時(shí),關(guān)閉SF6氣瓶的閥門,向高壓電極、低壓電極施加電壓;
S3、調(diào)節(jié)所述施加電壓的幅值至高壓電極與低壓電極間產(chǎn)生SF6輝光放電等離子體,并使得放電電流達(dá)到1-100mA,利用該等離子體對(duì)盆式絕緣子表面進(jìn)行1-10h的氟化處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述步驟S1中對(duì)盆式絕緣子進(jìn)行處理包括:將絕緣子表面用酒精擦拭干凈,在真空中以40-80℃恒溫烘烤30min至3h。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于:所述步驟S2中利用真空泵對(duì)密封腔體抽真空至密封腔體內(nèi)氣壓降至10-2Pa以下。
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