[發(fā)明專利]取向膜形成用組合物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610323234.9 | 申請日: | 2011-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN105754098B | 公開(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 松森正樹;今西泰雄;富岡安;國松登 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日本顯示器 |
| 主分類號: | C08G73/10 | 分類號: | C08G73/10;C08G73/14;C08L79/08;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 鐘晶;金鮮英 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 取向 形成 組合 | ||
1.一種取向膜形成用組合物,其特征在于,其為用于形成包含聚酰亞胺的取向膜的取向膜形成用組合物,該取向膜形成用組合物含有聚酰亞胺前體,
所述聚酰亞胺前體是使用二胺和酸酐而形成的,
所述二胺包含具有至少一個酸性基團的第1二胺、和除2個氨基外還具有至少一個含氮原子官能團的第2二胺,
所述第1二胺含有選自磺酸基、磷酸基和膦酸基中的至少一個官能團作為所述酸性基團,
所述第2二胺含有至少一個選自具有仲胺構(gòu)造-NH-的氨基、伯酰胺基-CO-NH
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述聚酰亞胺前體中含有的、基于所述第1二胺的所述酸性基團的數(shù)量與基于所述含氮原子官能團的氮原子數(shù)之比為0.25~4.0。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述聚酰亞胺前體的形成中使用的所述二胺中的、所述第1二胺的含有率和所述第2二胺的含有率的合計為30摩爾%以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述聚酰亞胺前體的形成中使用的所述酸酐含有50摩爾%以上的脂肪族酸二酐。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述取向膜形成用組合物為光取向膜形成用。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述聚酰亞胺前體包括聚酰胺酸酯和聚酰胺酸。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述聚酰胺酸酯是使用環(huán)丁烷四羧酸二酐衍生物和芳香族二胺而形成的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述酸酐為1,3-二甲基-1,2,3,4-環(huán)丁烷四羧酸二酐。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述第1二胺為下述化學(xué)式(A-2)~(A-4)、(A-6)~(A-8)、(A-10)、(A-11)、(A-13)、(A-14)、(A-19)和(A-20)所示的任一種化合物,
其中,化學(xué)式(A-10)、(A-11)中的n各自獨立地為1~8的整數(shù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜形成用組合物,其特征在于,所述第2二胺為下述化學(xué)式(B-6)~(B-9)、(B-13)、(B-15)~(B-24)、(B-28)和(B-30)所示的任一種化合物,
其中,上述化學(xué)式(B-30)中的R為碳數(shù)1~3的烷基,所述化學(xué)式(B-6)、(B-7)、(B-16)、(B-17)、(B-20)~(B-24)和(B-30)中的n各自獨立地為0~8的整數(shù)。
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C08G 用碳-碳不飽和鍵以外的反應(yīng)得到的高分子化合物
C08G73-00 不包括在C08G 12/00到C08G 71/00組內(nèi)的,在高分子主鏈中形成含氮的鍵合,有或沒有氧或碳鍵合反應(yīng)得到的高分子化合物
C08G73-02 .聚胺
C08G73-06 .在高分子主鏈中有含氮雜環(huán)的縮聚物;聚酰肼;聚酰胺酸或類似的聚酰亞胺母體
C08G73-24 .氟代亞硝基有機化合物與另一氟有機化合物的共聚物,如亞硝基橡膠
C08G73-26 ..三氟亞硝基甲烷與氟-烯烴
C08G73-08 ..聚酰肼;聚三唑;聚氨基三唑;聚二唑





