[發(fā)明專利]氫氧化銦的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610323231.5 | 申請日: | 2012-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN105839130B | 公開(公告)日: | 2018-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 新藤裕一朗;竹本幸一;古仲充之 | 申請(專利權(quán))人: | 吉坤日礦日石金屬株式會社 |
| 主分類號: | C25B1/00 | 分類號: | C25B1/00;C25B11/04;C25B15/08 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11219 | 代理人: | 金龍河,穆德駿 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氫氧化 制造 方法 | ||
本申請是申請日為2012年6月12日、申請?zhí)枮?01280027688.1(國際申請?zhí)枮镻CT/JP2012/065013)、發(fā)明名稱為“氫氧化銦或含氫氧化銦的化合物的制造方法”的發(fā)明專利申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明主要涉及氫氧化銦或含氫氧化銦的化合物的制造方法,該氫氧化銦或含氫氧化銦的化合物為用于制造形成ITO膜的濺射用ITO靶的氧化銦或含氧化銦的化合物粉末的原料。
背景技術(shù)
ITO(以銦-錫為主成分的復(fù)合氧化物)膜作為以液晶顯示器為主的顯示設(shè)備的透明電極(膜)而被廣泛使用。作為形成該ITO膜的方法,通常通過真空蒸鍍法或濺射法等一般被稱為物理蒸鍍法的方法進(jìn)行。特別是從操作性和膜的穩(wěn)定性考慮,大多使用磁控濺射法來形成。
基于濺射法的膜的形成如下進(jìn)行:使Ar離子等正離子物理轟擊設(shè)置在陰極的靶,并利用該轟擊能量釋放構(gòu)成靶的材料,從而在對置的陽極側(cè)的襯底上層疊組成與靶材料幾乎相同的膜。
采用濺射法的覆蓋法的特征在于,通過調(diào)節(jié)處理時間、供電功率等,能夠以穩(wěn)定的成膜速度形成從埃單位的薄膜至數(shù)十μm的厚膜。
一般來說,ITO燒結(jié)體靶是通過粉碎混合氧化銦和氧化錫,并對所得的混合粉末進(jìn)行成型、燒結(jié)來制造的。在氧化銦和氧化錫的粉碎混合時,使用球磨機、V型混合機或帶型混合機進(jìn)行干式或濕式混合。
作為ITO燒結(jié)體靶的原料的氧化銦粉末,可以通過對氫氧化銦進(jìn)行煅燒來制造。該氫氧化銦制造方法的代表性公知技術(shù),已在專利文獻(xiàn)1中公開。該專利文獻(xiàn)1的方法是以銦為陽極進(jìn)行電解來制造氫氧化銦,再對其進(jìn)行煅燒得到氧化銦粉末。需要說明的是,雖然該專利文獻(xiàn)1由于更名而導(dǎo)致申請人名稱與本申請不同,但其也是本申請人提出的申請。
作為氧化銦的制造方法,還可以考慮中和法。然而,如專利文獻(xiàn)1所述,由于中和法存在以下問題,因此電解法是有效的。
a)所得氧化銦粉末的各種特性(平均粒徑、表觀密度等)的偏差大,這是阻礙氧化銦系顯示材料、熒光體等的“品質(zhì)偏差的降低”或“高品質(zhì)化”的主要因素。
b)對于將制造條件(液溫、反應(yīng)速度等)控制為恒定來說未必容易,而為了使制造條件穩(wěn)定,設(shè)備成本上升。
c)在需要特性與以往不同的粉末時,無法靈活地應(yīng)對這種要求。
d)裝置的規(guī)模比較大,因此,如果要將制造條件控制為恒定,則需要相當(dāng)大的勞力,從這一方面可以認(rèn)為對于增產(chǎn)來說未必容易。
e)由于每次都會產(chǎn)生中和廢液(例如硝酸銨),因此需要進(jìn)行處理,這提高了運行成本。
接下來,給出通過電解制造氫氧化銦的代表例。
在濃度為0.2~5mol/L、pH為4~10、溫度為10~50℃的硝酸銨(NH4NO3)水溶液中,以銦為陽極(anode),并以100~1800A/m2的電流密度通電,進(jìn)行電解。然后,過濾電解槽底部的沉積物,洗滌并干燥,得到氫氧化銦。
在以該氫氧化銦作為原料制造氧化銦時,只要在1100℃左右的溫度下焙燒即可。由此,可以得到平均粒徑為1~5μm的氧化銦粉末。
在進(jìn)行上述氫氧化銦的電解時,在電解槽中配置銦板作為陽極(anode),配置常規(guī)的不銹鋼板作為陰極(cathode),并使電解液在它們之間流動來進(jìn)行電解。然而,生成的氫氧化銦附著在陽極表面,銦電沉積在陰極表面并以樹枝(dendrite)狀延伸,導(dǎo)致陽極和陰極發(fā)生短路,產(chǎn)生了無法長時間進(jìn)行電解的問題。
此外,如果連續(xù)實施電解,則溶出電位比In高的元素作為雜質(zhì)殘留在陽極表面,結(jié)果存在雜質(zhì)在表面濃縮的問題。如果在這種情況下繼續(xù)電解,則雜質(zhì)也混入到電解液中,導(dǎo)致之前析出的氫氧化銦的純度下降。此外,在陽極表面局部失去銦金屬,陽極表面的電流密度變得不均勻。結(jié)果還產(chǎn)生了下述異常情況,即,在陽極的表面局部產(chǎn)生孔穴,陽極自身脫落到電解浴中。
而且,在氫氧化銦的電解時,生成的氫氧化銦附著在陽極表面,銦電沉積在陰極表面并以樹枝(dendrite)狀延伸,產(chǎn)生了陽極和陰極短路的問題。
對現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行調(diào)查時,下述的專利文獻(xiàn)已被公開。
專利文獻(xiàn)2是氧化銦粉末的制造方法,該方法以銦作為陽極,并在攪拌成氫氧化銦沉淀懸浮在電解液中的狀態(tài)下進(jìn)行電解。具體來說,在未進(jìn)行攪拌時,電解槽液面附近的pH為8.5左右,槽底附近的pH為3.2左右,而通過攪拌電解液,使液面附近和槽底附近的電解液混合,從而使pH均勻化。
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