[發(fā)明專利]光場成像設備及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610322114.7 | 申請日: | 2016-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN106899789B | 公開(公告)日: | 2020-04-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 金鐘殷 | 申請(專利權(quán))人: | 愛思開海力士有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/225 | 分類號: | H04N5/225;G02B3/00 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 李少丹;許偉群 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 設備 及其 制造 方法 | ||
1.一種光場成像設備,包括:
圖像傳感器,包括其中多個亞微透鏡二維布置的亞微透鏡陣列;
微透鏡陣列,形成在圖像傳感器之上,并具有二維布置在其中的多個微透鏡;以及
支撐結(jié)構(gòu),形成在圖像傳感器與微透鏡陣列之間以用于在它們之間提供空氣隙,
所述支撐結(jié)構(gòu)包括:
多個第一支撐結(jié)構(gòu),形成在圖像傳感器之上以支撐微透鏡陣列,并具有柱形形狀;以及
第二支撐結(jié)構(gòu),耦接至第一支撐結(jié)構(gòu)以接觸微透鏡陣列的底表面,并具有板形形狀,
其中,所述多個第一支撐結(jié)構(gòu)中的每個還包括密封層,所述密封層形成在第一支撐層之上以填充由第一支撐層形成的內(nèi)部空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述多個微透鏡中的每個對應于多個亞微透鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述亞微透鏡不形成在與所述多個微透鏡的各個頂點相對應的區(qū)域中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,形成在與所述多個微透鏡的各個頂點相對應的區(qū)域中的亞微透鏡具有與形成在其他區(qū)域中的亞微透鏡不同的形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述多個亞微透鏡中的每個包括半球形透鏡或數(shù)字透鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,當從上面看時,所述多個亞微透鏡中的每個是多邊形形狀或圓形形狀,所述多邊形形狀具有至少四個邊并且在各個頂點處被倒圓。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述多個微透鏡中的每個具有多個頂點,并且所述多個頂點中的至少兩個頂點與第一支撐結(jié)構(gòu)重疊。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述多個微透鏡中的每個具有多個頂點,并且這些頂點中的沿對角線方向定位的兩個頂點與第一支撐結(jié)構(gòu)重疊。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,當從上面看時,所述多個微透鏡中的每個是多邊形形狀,所述多邊形形狀具有至少四個邊并且在各個頂點處被倒圓。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述多個微透鏡中的每個包括半球形透鏡或數(shù)字透鏡。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述多個第一支撐結(jié)構(gòu)以之字形圖案設置,以與所述多個微透鏡的頂點重疊。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,多個微透鏡共享所述多個第一支撐結(jié)構(gòu)中的每個。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,所述多個第一支撐結(jié)構(gòu)中的每一個的第一支撐層具有圓柱體形狀或空心柱形狀。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光場成像設備,其中,密封層包括與所述多個微透鏡或第一支撐層相同的材料。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光場成像設備,其中,所述第二支撐結(jié)構(gòu)包括:
第二支撐層,從第一支撐層延伸,并接觸所述多個微透鏡的底表面;以及
多個開口,形成在所述多個微透鏡之間的第二支撐層中。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光場成像設備,其中,第二支撐層與第一支撐層集成。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光場成像設備,其中,所述多個開口以之字形圖案設置,以與所述多個第一支撐結(jié)構(gòu)偏離。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光場成像設備,其中,所述多個第一支撐結(jié)構(gòu)和所述多個開口彼此交替地設置。
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