[發(fā)明專利]一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備及其使用方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610319680.2 | 申請日: | 2016-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN105772222A | 公開(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 房詩宏;馬志新;史亞明;史廣平;陸兵 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇宏標(biāo)科技有限公司 |
| 主分類號: | B03C3/12 | 分類號: | B03C3/12;B03C3/43;B03C3/47 |
| 代理公司: | 江蘇圣典律師事務(wù)所 32237 | 代理人: | 徐曉鷺 |
| 地址: | 214261 江蘇省無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 雙電區(qū) 微塵 處理 設(shè)備 及其 使用方法 | ||
1.一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,包括支架(2),通過支架(2)固 定的煙塵腔(1)和進(jìn)氣腔(3),進(jìn)氣腔(3)設(shè)置在煙塵腔(1)上方;
煙塵腔(1)下端設(shè)有出氣口(6),煙塵腔(1)中設(shè)有一組陽極扣板(4) 和一組陰極扣板(5);
所述陽極扣板(4)和陰極扣板(5)交錯排布;
所述陽極扣板(4)包括包括一對陽極扣板板框(7),所述陽極扣板板框(7) 對稱;所述陽極扣板板框(7)內(nèi)側(cè)設(shè)有一組陽極固定扣(8),對稱的陽極扣板 板框(7)的陽極固定扣(8)位置相同,通過相同位置的陽極固定扣(8)水平 設(shè)置一根電暈絲(9);
所述陰極扣板(5)包括一對陰極扣板板框(10),所述陰極扣板板框(10) 對稱;所述陰極扣板板框(10)內(nèi)側(cè)設(shè)有一組陰極固定扣(11),通過陰極固定 扣(11)固定一塊極板(12);
所述極板(12)包括基板(13),基板(13)上設(shè)有一組孔洞(14),通過固 定線(15)將纖維濾布(16)繃緊固定在基板(13)兩側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述進(jìn)氣 腔(3)為外擴(kuò)式喇叭口,喇叭口上設(shè)有風(fēng)扇。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述陽極 固定扣(8)至少為一個。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述電暈 絲(9)水平設(shè)置,豎直相鄰的電暈絲(9)間距為40mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述所述 相鄰的孔洞(14)間距相等。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述固定 線(15)為四氟線。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述相鄰 的極板(12)之間間距為32mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述支架 (2)、陽極扣板板框(7)、陽極固定扣(8)、陰極扣板板框(10)和陰極固定扣 (11)為高分子材料注塑成型。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其特征是,所述基板 (13)為不銹鋼板。
10.權(quán)利要求1所述的雙電區(qū)微塵處理設(shè)備,其使用方法包括以下步驟:
1)將煙塵腔進(jìn)行通電,高壓直流電在電暈絲和極板之間形成高壓電場;
2)通過進(jìn)氣腔中的風(fēng)扇進(jìn)行集氣,氣體排入煙塵腔;
3)由于電暈絲發(fā)生電暈放電,使得煙塵腔內(nèi)充滿帶正、負(fù)電荷的離子;由 于受到高壓靜電場庫侖力的作用,帶正電的氣體離子,在電場力的作用下,向陰 級板運(yùn)動,在運(yùn)動中與氣體中粉塵顆粒相碰,使粉塵顆粒在電場力的作用下,亦 向陰極運(yùn)動,到達(dá)陰極后,放出所帶的正電荷,塵粒則沉積于極板的纖維濾布上, 從而使空氣得到凈化;
4)過濾后的空氣通過出氣口排出。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙電區(qū)微塵處理設(shè)備使用方法,其特征是,步驟 1所述高壓直流電為電壓為8-15kv。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙電區(qū)微塵處理設(shè)備使用方法,其特征是,步驟 2所述氣體流速為2m/s。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙電區(qū)微塵處理設(shè)備使用方法,其特征是,步驟 2所述氣體顆粒物含量為200-50/M3。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙電區(qū)微塵處理設(shè)備使用方法,其特征是,步驟 2所述氣體溫度為25-150℃。
15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的雙電區(qū)微塵處理設(shè)備使用方法,其特征是,步驟3 所述氣體通過煙塵腔過濾后氣體顆粒物含量為20/M3。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江蘇宏標(biāo)科技有限公司,未經(jīng)江蘇宏標(biāo)科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610319680.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種空氣動力學(xué)噴嘴
- 下一篇:一種出料口加強(qiáng)磁棒
- 同類專利
- 專利分類
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





