[發明專利]一種基坑降水與污染場地整治耦合的清潔基坑降水系統

有效

• 申請號: 201610312149.2
• 申請日: 2016-05-12
• 公開（公告）號: CN105839655B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 王建秀;吳林波;鄧沿生;宋東升;張宇澄
• 申請（專利權）人: 同濟大學
• 主分類號: E02D19/10
• 分類號: E02D19/10;B01D36/04
• 代理公司: 上?？剖⒅R產權代理有限公司31225
• 代理人: 林君如

1.一種基坑降水與污染場地整治耦合的清潔基坑降水系統，用于實現控制范圍場地內的基坑降水與污染場地修復，所述的控制范圍場地從上到下包括第一隔水層(1601)、含水層(17)和第二隔水層(1602)，其特征在于，所述的基坑降水系統包括：

活性滲濾溝(5)：設置在控制范圍場地的邊緣，并用于凈化進入控制范圍場地內的污染水體，所述的活性滲濾溝(5)底部延伸至第二隔水層(1602)內，在活性滲濾溝(5)內從底部到頂部依次設置活性滲濾墻、黏土層(12)和填充條塊層(15)，所述的活性滲濾墻的頂部伸入第一隔水層(1601)內；

基坑帷幕(2)：設置在控制范圍場地內，其底部伸入所述的控制范圍場地的含水層(17)內并高于含水層(17)底部；

抽水井：包括疏干井(1)和降壓井(3)兩種，其中，疏干井(1)設置在基坑帷幕(2)內，其深度與基坑帷幕(2)深度一致；降壓井(3)設置在基坑帷幕(2)與活性滲濾溝(5)之間，其底部抵達含水層(17)底部，所述的抽水井在接觸含水層(17)的位置還設有活性過濾墻；

觀測井(4)：設置在控制范圍場地內外，用于監測控制范圍場地內的含水層(17)的水體污染情況，所述的觀測井(4)的底部抵達含水層(17)底部；

所述的抽水井還與外部抽水組件連接，所述的活性滲濾墻分為兩種，包括設置在活性滲濾溝(5)處的第一活性滲濾墻(1101)和設置在抽水井處的第二活性滲濾墻(1102)。

2.根據權利要求1所述的一種基坑降水與污染場地整治耦合的清潔基坑降水系統，其特征在于，所述的活性滲濾溝(5)的深度滿足：下挖至第二隔水層(1602)大于或等于1m。

3.根據權利要求1所述的一種基坑降水與污染場地整治耦合的清潔基坑降水系統，其特征在于，所述的第一活性滲濾墻(1101)由活性滲濾溝(5)的底部堆疊至含水層(17)頂部0.8-1.2m處；

所述的黏土層(12)的厚度為1.5-2.5m；

所述的填充條塊層(15)由輕質剛性條塊堆疊至地表組成。

4.根據權利要求1所述的一種基坑降水與污染場地整治耦合的清潔基坑降水系統，其特征在于，所述的第一活性滲濾墻(1101)由內置修復試劑的反應模塊(19)組成，所述的反應模塊(19)的橫向兩端分別依次設有凹槽(21)與凸梁(20)，所述的凸梁(20)的寬度小于凹槽(21)的寬度，同一反應模塊(19)的兩端的凹槽(21)與凸梁(20)的分布朝向正好相反，以使得橫向相鄰的兩反應模塊(19)之間的相互鑲嵌；

所述的反應模塊(19)的縱向兩端設置成面向相反的臺階狀，且臺階狀的外邊沿(22)與內邊沿(23)的寬度匹配，以便于縱向相鄰的反應模塊(19)的相互契合。

5.根據權利要求1所述的一種基坑降水與污染場地整治耦合的清潔基坑降水系統，其特征在于，所述的疏干井(1)和降壓井(3)的中心軸線位置均安裝有與外部抽水組件連接的第一鋼管(901)，位于第一鋼管(901)下部的第一過濾管部分(1001)從含水層(17)頂部位置直達井底，在第一過濾管部分(1001)的外圍還安裝有第一活性滲濾墻(1101)，并使得第一活性滲濾墻(1101)上端高出第一過濾管部分(1001)頂端，在第一活性滲濾墻(1101)的上端還依次設置黏土層(12)和砂土層(13)。

6.根據權利要求1所述的一種基坑降水與污染場地整治耦合的清潔基坑降水系統，其特征在于，所述的觀測井(4)的中心軸線位置安裝有第二鋼管(902)，第二鋼管(902)下端的第二過濾管部分(1002)從含水層(17)頂部直達含水層(17)底部，第二過濾管部分(1002)的外圍設置瓜子片層(14)，并使得瓜子片層(14)高出濾水管頂端，在瓜子片層(14)上部還依次設置黏土層(12)和砂土層(13)。