[發明專利]用于將材料沉積在基板上的設備有效
| 申請號： | 201610312064.4 | 申請日： | 2012-04-19 |
| 公開（公告）號： | CN105925953B | 公開（公告）日： | 2019-01-22 |
| 發明（設計）人： | 埃羅爾·安東尼奧·C·桑切斯;理查德·O·柯林斯;戴維·K·卡爾森;凱文·鮑蒂斯塔;赫爾曼·P·迪尼茲;凱拉什·帕塔雷;尼·O·謬;丹尼斯·L·德馬斯;克里斯托夫·馬卡德;史蒂夫·江珀;薩瑟施·庫珀奧 | 申請（專利權）人： | 應用材料公司 |
| 主分類號： | C23C16/02 | 分類號： | C23C16/02;C23C16/30;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國;趙靜 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 搜索關鍵詞： | 用于 材料 沉積 基板上 設備 | ||
【權利要求書】：
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
