[發明專利]一種填充式低溫等離子體協同吸附催化VOCs凈化裝置在審
| 申請號: | 201610306942.1 | 申請日: | 2016-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN105749744A | 公開(公告)日: | 2016-07-13 |
| 發明(設計)人: | 包浩;施平平;錢東升;傅偉根;屠天云 | 申請(專利權)人: | 浙江中泰環保股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/86 | 分類號: | B01D53/86;B01D53/44 |
| 代理公司: | 杭州華知專利事務所 33235 | 代理人: | 寧岡 |
| 地址: | 324000 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 填充 低溫 等離子體 協同 吸附 催化 vocs 凈化 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種VOCs凈化技術領域,具體涉一種填充式低溫等離子體協同吸附催化VOCs凈化裝置。
背景技術
VOCs(有機揮發性氣體),具有揮發性,在常溫條件下很容易形成VOCs氣體,造成VOCs大氣污染,破壞臭氧層,危害人類健康和生態環境。許多VOCs物質還會引發城市化學煙霧,造成二次污染,對人類健康產生更大的危害。此外,VOCs作為可吸入顆粒物的前體之一,是造成酸霧、煙霧的重要原因。VOCs產生及排放涉及到工業行業,包括石油化工、精細化工、噴涂、包裝印刷、半導體及電子產品制造、人造板與木制家具制造、皮革、涂料、油墨、粘合劑生產、金屬制造等眾多行業,各行業中產生VOCs種類繁多,組成復雜。常見的組分有碳氫化合物、苯系物、醇類、酮類、酚類、醛類、酯類、胺類、腈類等。VOCs排放日趨受到廣泛的關注,全世界已在空氣中檢出VOCs約150余種,其中有毒的約80余種,直接導致臭氧生成的前體物有60余種。目前VOCs的排放量沒有一個統一的官方數據,根據2012年環境保護部頒布的《重點區域大氣污染防治“十二五”規劃》2010年全國重點地區重點城市VOCs排放量417.25噸,但有研究表明當年全國實際排放量約3000萬噸,山東、浙江、江蘇排放量居首,其中山東省(79.6萬噸)、浙江省(52.7萬噸)和江蘇省(51.3萬噸),占比約為重點區為重點區域VOCs排放總量的44%;最小的3區域為山西(2.6萬噸)、湖南(2.6萬噸)和寧夏(3.95萬噸)。在我國,VOCs治理已刻不容緩。
低溫等離子體是繼固態、液態、氣態之后的第四種物質形態,當外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現低溫狀態,所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短時間內發生分解,并發生后續的種反應達到降解污染物的目的。
雙介質阻擋放電產生的高能電子、離子、自由基和激發態分子數量極多,與傳統的電暈放電產生的低溫等離子體技術相比較,其放電密度是電暈放電的1500多倍。與傳統方法相比,低溫等離子體技術與傳統方法相比具有很多優點,但由于等離子體降解過程某些產物的不可控,可能會產生一些有害產物,造成二次污染。
在VOCs凈化領域中,常用的催化劑為貴金屬催化劑,與非貴金屬相比,貴金屬催化劑顯示出更高的催化活性,但存在易揮發、易高溫燒結和價格昂貴的缺點。非金屬催化劑原料豐富、價格低廉,且具有多種價態,具有較好的催化活性和高溫穩定性,但催化性能不及貴金屬。目前,已有研究表明,非貴金屬催化劑可以通過改性提高催化性能。
活性炭具有很大的比表面積,獨特的孔道結構和較高的表面活性,因此被廣泛地用作吸附VOCs的吸收劑,但活性炭吸附一定污染物后,凈化效果下降,甚至失效,需進行脫附再生,操作繁鎖,且易產生二次污染。
發明內容
為解決上述技術問題,本發明設計了一種填充式低溫等離子體協同吸附催化VOCs凈化裝置,在低溫等離子體中引入適量的催化劑,有效地控制反應產物的生成與分布,增加CO2的選擇性,同時在催化劑中摻雜一定比例的活性炭,增加廢氣在凈化裝置中的停留時間,提高能量效率。
本發明采用如下技術方案:
一種填充式低溫等離子體協同吸附催化VOCs凈化裝置,其包括預除塵裝置和殼體,殼體包括前小后大的進口喇叭、中間段和前大后小的出口喇叭,預除塵裝置、進口喇叭、中間段和出口喇叭依次連通,中間段內設置有低溫等離子體反應器,低溫等離子體反應器內填充有催化劑和活性炭。
作為優選,所述中間段內設置有若干低溫等離子體反應器,低溫等離子體反應器為雙介質阻擋放電等離子反應器,每個低溫等離子反應器沿氣流方向平行地布置在殼體內,若干低溫等離子體反應器平行均勻布置。
作為優選,所述進口喇叭內設置有氣流均布裝置,氣流均布裝置的形式是百葉窗式、多孔式、分布格子、槽形鋼分布板或欄桿式分布板,氣流均布裝置的開口率在40%-60%之間。氣流均布裝置保證廢氣均勻地進入等離子體反應器。
作為優選,所述低溫等離子體反應器內的催化劑和活性炭以固定床式填充,催化劑與活性炭的填充質量比例范圍為2:8-4:6。
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