[發明專利]一種放置在真空環境中的玻璃隔板的防爆破裝置

有效

• 申請號: 201610306549.2
• 申請日: 2016-05-11
• 公開（公告）號: CN105909973B
• 公開（公告）日: 2017-12-19
• 發明（設計）人: 王禮權;敬域堃;馮斌;李富全;向勇;韓偉;王芳;李恪宇;柴向旭;賈懷庭;鐘偉;張帆;陳旭
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: F17C13/12
• 分類號: F17C13/12;F17C1/00
• 代理公司: 中國工程物理研究院專利中心51210
• 代理人: 翟長明,韓志英

1.一種放置在真空環境中的玻璃隔板的防爆破裝置，其特征在于，包括高真空容器（2）、低真空容器（3）、高真空管道（4）、低真空管道（5）、高真空規管（6）、低真空規管（7）、真空開關Ⅰ（8）、真空開關Ⅱ（9）、高真空電磁閥Ⅰ（10）、高真空電磁閥Ⅱ（11）、安全爆破片Ⅰ（12）、安全爆破片Ⅱ（13）、電氣控制線路（14）、PLC控制系統（15）；

所述的高真空容器（2）和低真空容器（3）之間放置玻璃隔板（1）；所述的高真空管道（4）與高真空容器（2）連通，高真空管道（4）上安裝有高真空規管（6）和真空開關Ⅰ（8）；所述的低真空管道（5）與低真空容器（3）連通，低真空管道（5）上有安裝低真空規管（7）和真空開關Ⅱ（9）；所述的高真空管道（4）和低真空管道（5）之間并聯高真空電磁閥Ⅰ（10）、高真空電磁閥Ⅱ（11）、安全爆破片Ⅰ（12）和安全爆破片Ⅱ（13）；

所述的高真空規管（6）和低真空規管（7）的真空讀數通過電氣控制線路（14）傳輸至PLC控制系統（15），PLC控制系統（15）的控制命令通過電氣控制線路（14）傳輸至高真空電磁閥Ⅰ（10）和高真空電磁閥Ⅱ（11）；

所述的真空開關Ⅰ（8）通過設定值控制高真空電磁閥Ⅰ（10）和高真空電磁閥Ⅱ（11）同時打開或關閉；所述的真空開關Ⅱ（9）通過設定值控制高真空電磁閥Ⅰ（10）和高真空電磁閥Ⅱ（11）同時打開或關閉；

所述的高真空容器（2）和低真空容器（3）之間的壓差值控制安全爆破片Ⅰ（12）和安全爆破片Ⅱ（13）的爆破，安全爆破片Ⅰ（12）、安全爆破片Ⅱ（13）的爆破方向相反。

2.根據權利要求1所述的放置在真空環境中的玻璃隔板的防爆破裝置，其特征在于，所述的玻璃隔板（1）的尺寸范圍為：矩形范圍為200mm×200mm~ 400mm×400mm，厚度范圍為2.5 mm ~10mm；圓形直徑范圍為Φ200mm~ 400mm，厚度范圍為2.5 mm ~10mm。

3.根據權利要求1所述的放置在真空環境中的玻璃隔板（1）的防爆破裝置，其特征在于，所述的高真空規管（6）為復合真空計，壓力測量范圍為5×10^-8 Pa ~1.5×10⁵ Pa；低真空規管（7）的壓力測量范圍為5×10^-2 Pa ~1.5×10⁵ Pa。

4.根據權利要求1所述的放置在真空環境中的玻璃隔板（1）的防爆破裝置，其特征在于，所述的真空開關Ⅰ（8）或真空開關Ⅱ（9）的設定值A為5000Pa，精度為±100 Pa。

5.根據權利要求1所述的放置在真空環境中的玻璃隔板（1）的防爆破裝置，其特征在于，所述的高真空電磁閥Ⅰ（10）和高真空電磁閥Ⅱ（11）為內置不銹鋼波紋管密封結構的角閥，漏率為5×10^-10 Pa·m³/s，開方向和關方向的壓差均≤1.3×10⁵ Pa，工作最小壓強為1×10^-6 Pa。

6.根據權利要求1所述的放置在真空環境中的玻璃隔板（1）的防爆破裝置，其特征在于，所述的安全爆破片Ⅰ（12）和安全爆破片Ⅱ（13）的爆破壓力設定值B為10000Pa（B=2A），精度為±5% 。