[發明專利]放射線圖像檢測裝置以及放射線圖像檢測裝置的制造方法有效
| 申請號: | 201610298364.1 | 申請日: | 2011-05-30 | 
| 公開(公告)號: | CN105913894B | 公開(公告)日: | 2018-03-23 | 
| 發明(設計)人: | 金子泰久;中津川晴康;佐藤圭一郎;北田信;三浦圭 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 | 
| 主分類號: | G21K4/00 | 分類號: | G21K4/00;G01T1/20 | 
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司11219 | 代理人: | 權太白,戚傳江 | 
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放射線 圖像 檢測 裝置 以及 制造 方法 | ||
1.一種放射線圖像檢測裝置,其特征在于,
具備:熒光體,包含通過放射線曝光發出熒光的熒光物質;和
傳感器面板,檢測從所述熒光體發出的熒光并且將所述熒光變換成電信號,
所述熒光體形成于所述傳感器面板上,并且包括柱狀部和非柱狀部,所述柱狀部由所述熒光物質的晶體柱狀生長而獲得的柱狀晶體的群形成,
所述柱狀部和所述非柱狀部被一體地形成,以使所述非柱狀部與所述傳感器面板接觸并且所述柱狀部和所述非柱狀部在所述柱狀部的晶體生長方向上重疊,
所述非柱狀部包括具有不同孔隙率的多個層,與所述傳感器面板相接觸的下層的孔隙率小于與所述柱狀部相接觸的上層的孔隙率,
在所述傳感器面板側設置放射線進入表面,
所述下層的厚度是5~50μm,
所述上層的厚度是5~125μm。
2.根據權利要求1的放射線圖像檢測裝置,其中,
所述下層的孔隙率是15%以下。
3.一種放射線圖像檢測裝置,其特征在于,
具備:熒光體,包含通過放射線曝光發出熒光的熒光物質;和
傳感器面板,檢測從所述熒光體發出的熒光并且將所述熒光變換成電信號,
所述熒光體形成于所述傳感器面板上,并且包括柱狀部和非柱狀部,所述柱狀部由所述熒光物質的晶體柱狀生長而獲得的柱狀晶體的群形成,
所述柱狀部和所述非柱狀部被一體地形成,以使所述非柱狀部與所述傳感器面板接觸并且所述柱狀部和所述非柱狀部在所述柱狀部的晶體生長方向上重疊,
所述非柱狀部的孔隙率從與所述傳感器面板相接觸的一側朝向與所述柱狀部相接觸的一側逐漸增加,
在所述傳感器面板側設置放射線進入表面,
所述下層的厚度是5~50μm,
所述上層的厚度是5~125μm。
4.一種權利要求1至3中的任一項所述的放射線圖像檢測裝置的制造方法,其特征在于,
改變真空度和傳感器面板溫度中的至少一個條件,并通過氣相沉積方法將所述熒光物質的晶體沉積在所述傳感器面板上,而將所述非柱狀部和所述柱狀部依次形成于傳感器面板上,
在形成所述非柱狀部的工序中,使所述熒光物質的晶體的沉積速率變化,
在形成所述非柱狀部的工序中,將工序初期的沉積速率設置成比工序終期的沉積速率高。
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