[發明專利]一種基于暗場方差信號的圖像傳感器關鍵參數測試方法有效
| 申請號: | 201610297895.9 | 申請日: | 2016-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN105915891B9 | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發明(設計)人: | 溫強;劉詩暢;李立 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工程大學 |
| 主分類號: | H04N17/00 | 分類號: | H04N17/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 暗場 方差 信號 圖像傳感器 關鍵 參數 測試 方法 | ||
1.一種基于暗場均值信號的圖像傳感器關鍵參數測試方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:在暗場條件下對圖像傳感器進行曝光操作,取n個不同的曝光時間,并分別采集這n個不同曝光時間所對應的n幀暗場圖像數據;按照EMVA Standard 1288要求,在暗信號初值均值μd.0已知的基礎上,計算出n組暗場灰度值均值μy.dark,
S2:將圖像傳感器的系統增益K、暗電流μI作為遺傳算法中染色體基因,分別為Lk、LI,則染色體個體為L=(Lk、LI),
S3:設定遺傳算法中染色體個體適應度函數為:
其中:μd.0為暗信號初值均值,μI為暗電流,texp為曝光時間,i為曝光序數,
S4:按照遺傳算法的進化流程得出Lk、LI,即圖像傳感器系統增益K、暗電流μI的最優估計值。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱工程大學,未經哈爾濱工程大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610297895.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種無人機機載多軸云臺調試裝置
- 下一篇:圖像處理裝置和圖像處理方法





