[發(fā)明專利]一種微流控反應(yīng)器及其應(yīng)用以及檢測系統(tǒng)和檢測液相界面離子分布的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610296991.1 | 申請日: | 2016-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN107345935A | 公開(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 汪福意;王朝英;羅群;吳魁 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院化學(xué)研究所 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62;B01J19/00 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283 | 代理人: | 嚴(yán)政,劉兵 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微流控 反應(yīng)器 及其 應(yīng)用 以及 檢測 系統(tǒng) 界面 離子 分布 方法 | ||
1.一種微流控反應(yīng)器,其特征在于,該微流控反應(yīng)器包括基底和部分區(qū)域被氮化硅薄膜代替的硅片,其中,所述基底具有用于放置樣品的凹陷結(jié)構(gòu),所述硅片完全覆蓋所述凹陷結(jié)構(gòu),從而與凹陷結(jié)構(gòu)共同形成密封的樣品庫,被氮化硅薄膜代替的部分區(qū)域設(shè)置于凹陷結(jié)構(gòu)的上方并且其面積小于等于凹陷結(jié)構(gòu)的上表面面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微流控反應(yīng)器,其中,所述氮化硅薄膜的面積為0.25-4mm2,優(yōu)選為1-2.25mm2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微流控反應(yīng)器,其中,所述氮化硅薄膜的厚度為10-300nm,優(yōu)選為50-200nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微流控反應(yīng)器,其中,所述基底還具有用于向凹陷結(jié)構(gòu)中引入樣品和/或從凹陷結(jié)構(gòu)中引出樣品的管路。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微流控反應(yīng)器,其中,所述管路的橫截面積為0.01-0.25mm2。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微流控反應(yīng)器,其中,所述基底的材質(zhì)為聚醚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙乙烯、聚乙烯、聚酯或聚氯乙烯。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微流控反應(yīng)器,其中,所述微流控反應(yīng)器還包括進(jìn)樣器和導(dǎo)管,所述導(dǎo)管用于將進(jìn)樣器中的樣品引入凹陷結(jié)構(gòu)內(nèi)和/或?qū)枷萁Y(jié)構(gòu)中的樣品引出。
8.權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的微流控反應(yīng)器在檢測液相界面離子 分布中的應(yīng)用。
9.一種檢測系統(tǒng),其特征在于,該檢測系統(tǒng)包括權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的微流控反應(yīng)器和飛行時間二次離子質(zhì)譜儀。
10.一種檢測液相界面的方法,其特征在于,該方法在權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的微流控反應(yīng)器中實(shí)施且包括:將裝有待測液體的微流控反應(yīng)器依次置于飛行時間二次離子質(zhì)譜儀的進(jìn)樣室進(jìn)行抽真空,再轉(zhuǎn)至主真空室中進(jìn)行分析。
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