[發(fā)明專利]大功率激光高亮度光譜合成系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610296484.8
• 申請(qǐng)日: 2016-05-06
• 公開（公告）號(hào): CN105762632B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許曉軍;韓凱;劉澤金;王小林;馬閻星;張烜喆;寧禹;周樸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國人民解放軍國防科學(xué)技術(shù)大學(xué)
• 主分類號(hào): H01S3/10
• 分類號(hào): H01S3/10
• 代理公司: 國防科技大學(xué)專利服務(wù)中心 43202
• 代理人: 曹德斌

1.一種大功率激光高亮度光譜合成系統(tǒng)，其特征在于，包括：N塊平面反射鏡、一個(gè)會(huì)聚透鏡和一個(gè)光電位置探測(cè)器；所述平面反射鏡包括基底，所述基底的兩面分別為反射面和透射面；所述平面反射鏡為M_i，i＝1,2,……N，波長為λ₁的光束入射到平面反射鏡M₁的反射面上，經(jīng)過平面反射鏡M₁反射后，入射到平面反射鏡M₂的反射面上，經(jīng)過M₂反射后，入射到平面反射鏡M₃的反射面上，以此類推所述波長為λ₁的光束λ₁一直順次反射到平面反射鏡M_N的反射面上，經(jīng)過平面反射鏡M_N反射后輸出；波長為λ_i的光束入射到平面反射鏡M_i-1的透射面上，i＝2,……N，穿過平面反射鏡M_i-1后，入射到平面反射鏡M_i的反射面上，經(jīng)過平面反射鏡M_i反射后，入射到平面反射鏡M_i+1的反射面上，以此類推所述波長為λ_i的光束一直順次反射到平面反射鏡M_N的反射面上，經(jīng)過平面反射鏡M_N反射后輸出；穿過平面反射鏡M_N的N束弱激光經(jīng)過所述會(huì)聚透鏡后，聚焦在所述光電位置探測(cè)器上，形成N個(gè)光點(diǎn)；調(diào)節(jié)N路入射激光的光軸，使所述光電位置探測(cè)器上的N個(gè)光點(diǎn)重合在一起，以實(shí)現(xiàn)光譜合成；

所述平面反射鏡M_i(i＝1,2,……N-1)反射面，對(duì)光束λ₁、λ₂、……、λ_i的光譜反射率>99.99％，對(duì)光束λ_i+1的光譜透射率>99.9％；

所述平面反射鏡M_i(i＝1,2,……N-1)透射面，對(duì)光束λ_i+1的光譜透射率>99.9％；

所述平面反射鏡M_N反射面，對(duì)光束λ₁、λ₂、……、λ_N的光譜反射率為99.9％；

所述平面反射鏡M_N透射面，對(duì)光束λ₁、λ₂、……、λ_N的光譜透射率>99.9％；

所述光束入射平面反射鏡的角度小于20°；

所述平面反射鏡M_i(i＝1,2,……N-1)基底的反射面上鍍制有邊通型膜系結(jié)構(gòu)的高反膜，所述平面反射鏡M_i(i＝1,2,……N-1)基底的透射面上鍍制有增透膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大功率激光高亮度光譜合成系統(tǒng)，其特征在于，所述平面反射鏡M_i的反射面對(duì)光束λ₁、λ₂、……、λ_i高反，對(duì)光束λ_i+1高透，i＝1,2,……N-1；所述平面反射鏡M_i的透射面對(duì)光束λ_i+1高透，i＝1,2,……N-1；所述平面反射鏡M_N的反射面對(duì)光束λ₁、λ₂、……、λ_N高反；所述平面反射鏡M_N的透射面對(duì)光束λ₁、λ₂、……、λ_N高透。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大功率激光高亮度光譜合成系統(tǒng)，其特征在于，所述平面反射鏡采用吸收率小的材料作為基底。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的大功率激光高亮度光譜合成系統(tǒng)，其特征在于，所述會(huì)聚透鏡的通光口徑大于光束的口徑，共軸性<3arcmin。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的大功率激光高亮度光譜合成系統(tǒng)，其特征在于，所述光電位置探測(cè)器采用PSD，為直線位移式，探測(cè)面積大于光束截面積。