[發(fā)明專利]顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610295971.2 | 申請日: | 2016-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN105739207A | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊玉梅;何定 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳愛易瑞科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)粵*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 | ||
1.一種顯示面板,所述顯示面板包括第一偏光板、彩色濾光片基板、液晶層、薄膜晶體管陣列基板、第二偏光板、背光模組和控制電路,所述控制電路與所述背光模組、所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板電性連接;
所述第一偏光板、所述彩色濾光片基板、所述薄膜晶體管陣列基板、所述第二偏光板和所述背光模組疊加組合為一體,所述液晶層設置于所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板之間;
所述彩色濾光片基板包括第一基板、彩膜層、黑色矩陣層、共通電極層、間隔子組合層、第一配向膜層,所述彩膜層包括紅色色阻塊、綠色色阻塊、藍色色阻塊、白色色阻塊;
所述背光模組包括光源、導光板、反射板、散射板,所述光源設置于所述導光板的一側(cè)邊上,所述背光模組用于向由所述第一偏光板、所述彩色濾光片基板、所述液晶層、所述薄膜晶體管陣列基板和所述第二偏光板所組成的整體提供光源;
其特征在于,所述薄膜晶體管陣列基板包括:
器件組合板,所述器件組合板包括:
第二基板;
第一信號線層,所述第一信號線層包括掃描線、柵極;
第一絕緣層,所述第一絕緣層設置于所述第二基板和所述第一信號線層上;
半導體層;
第二絕緣層,所述第二絕緣層設置于所述第一絕緣層和所述半導體層上;以及
第二信號線層,所述第二信號線層包括數(shù)據(jù)線、源極、漏極;
鈍化層,所述鈍化層設置在所述器件組合板上,所述鈍化層上設置有孔洞和凹槽陣列,所述凹槽陣列包括至少一凹槽;
像素電極層,所述像素電極層設置在所述鈍化層上以及所述凹槽陣列內(nèi),所述像素電極層通過所述孔洞與所述第二信號線層連接;
第二配向膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述孔洞的第一橫截面的形狀與所述凹槽的第二橫截面的形狀相同;
所述第一橫截面的面積與所述第二橫截面的面積相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,在所述顯示面板所對應的平面上,所述孔洞與所述凹槽的最短距離與相鄰兩所述凹槽之間的距離相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述孔洞具有第一深度,所述凹槽具有第二深度;
所述凹槽陣列和所述孔洞均是通過相同的光罩制程和蝕刻制程來形成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,所述光罩制程所對應的掩模包括:
一第一區(qū)域,所述第一區(qū)域具有第一透光率,所述第一區(qū)域與所述孔洞對應,所述第一透光率與所述第一深度對應;
至少一第二區(qū)域,所述第二區(qū)域具有第二透光率,所述第二區(qū)域與所述凹槽對應,所述第二透光率與所述第二深度對應。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述掩模為半色調(diào)掩模。
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任意一項所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽陣列和所述孔洞是通過對所述鈍化層上的光阻材料層進行所述光罩制程,以在所述光阻材料層上的第三區(qū)域和第四區(qū)域上分別形成第一凹陷和第二凹陷,并在所述第一凹陷和所述第二凹陷處對所述鈍化層和所述光阻材料層進行蝕刻來形成的;
其中,所述第三區(qū)域與所述第一區(qū)域?qū)龅谒膮^(qū)域與所述第二區(qū)域?qū)龅谝话枷菥哂械谌疃龋龅诙枷菥哂械谒纳疃取?/p>
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述半導體層包括非晶硅。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述半導體層包括多晶硅。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述半導體層包括銦鎵鋅氧化物。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





