[發明專利]環式撞擊型氣化爐

有效

• 申請號: 201610293983.1
• 申請日: 2016-05-05
• 公開（公告）號: CN105733686B
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 彭寶仔;劉臻;管清亮;鞏志堅
• 申請（專利權）人: 神華集團有限責任公司;北京低碳清潔能源研究所
• 主分類號: C10J3/48
• 分類號: C10J3/48;C10J3/50
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 鄺圓暉;李翔

1.一種環式撞擊型氣化爐，包括內設氣化室(2)的爐體，所述爐體的上部設有氣化原料噴嘴(1)，該氣化原料噴嘴(1)朝向所述氣化室(2)噴出豎直向下延伸的環狀氣化原料流體，所述爐體上還設有多個與所述氣化原料噴嘴(1)非同軸布置的多個氣化劑噴嘴(222)，多個所述氣化劑噴嘴(222)噴出的氣化劑流體朝向氣化原料流體傾斜向下呈倒錐流體面噴出，多個所述氣化劑噴嘴(222)噴出的氣化劑流體與所述環狀氣化原料流體在所述氣化室(2)內相互撞擊而發生燃燒和氣化反應，其中，所述氣化原料噴嘴(1)內形成有供氣化原料通過的單流體通道(11)，所述單流體通道(11)內設有分料器(12)，使得氣化原料流體經過所述分料器(12)后從所述單流體通道(11)的出口端呈環狀流體噴出。

2.根據權利要求1所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述分料器(12)包括頂端的圓錐端和底端的圓柱端，所述圓錐端的頂點朝上，所述圓柱端的圓柱面與所述單流體通道(11)的內周壁之間形成有環形間隔空間(111)，向下流動的所述氣化原料流體經由所述圓錐端的圓錐面后分流至所述環形間隔空間(111)以形成環狀流體噴出。

3.根據權利要求2所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述分料器(12)包括沿徑向依次間隔套設的多個套管，所述氣化原料流體經由相鄰兩個所述套管之間的環形間隔空間(111)呈環狀流體噴出。

4.根據權利要求1所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述分料器(12)為設置在所述單流體通道(11)的橫截面上的多孔分料板，該多孔分料板的外周緣部依次間隔布置有多個貫通孔。

5.根據權利要求1所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述氣化原料噴嘴(1)包括噴嘴座體，所述爐體的頂蓋部設有安裝孔，所述噴嘴座體嵌入安裝于所述安裝孔中；

其中，所述單流體通道(11)形成于所述噴嘴座體內，且所述噴嘴座體內嵌設有盤繞所述單流體通道(11)的內周壁設置的冷卻液盤管(13)。

6.根據權利要求1～5中任意一項所述的環式撞擊型氣化爐，其中，圍繞所述氣化室(2)的爐體周壁包括從外至內的保溫層(23)、氣化劑環層(22)和水冷壁(21)，所述氣化劑噴嘴(222)將所述氣化劑環層(22)中的氣化劑呈流體狀噴向所述氣化室(2)。

7.根據權利要求6所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述氣化劑噴嘴(222)從所述爐體的頂蓋部的水冷壁(21)向內且傾斜向下伸出。

8.根據權利要求7所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述氣化原料噴嘴(1)安裝在所述爐體的頂蓋部的中心且所述氣化原料流體豎直向下噴出，所述氣化劑噴嘴(222)噴出的氣化劑流體朝向所述氣化原料流體傾斜向下噴出，所述氣化原料流體與所述氣化劑流體之間的碰撞夾角0°<α<180°。

9.根據權利要求8所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述氣化劑噴嘴(222)噴出的氣化劑流體的流速大于所述氣化原料噴嘴(1)噴出的所述環狀氣化原料流體的流速。

10.根據權利要求6所述的環式撞擊型氣化爐，其中，所述氣化劑噴嘴(222)連接的氣化劑輸送管布置在所述氣化劑環層(22)內，所述氣化劑輸送管包括輸送母管(24)和多個輸送支管(221)，所述輸送母管(24)環繞布置在所述氣化劑環層(22)的底部，且所述輸送母管(24)沿周向間隔設置有多個氣化劑入口(241)，每個所述氣化劑噴嘴(222)分別通過相應的所述輸送支管(221)連接至所述輸送母管(24)。