[發(fā)明專利]CF基板生產(chǎn)線及CF基板的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610292844.7 | 申請(qǐng)日: | 2016-05-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105785637B | 公開(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李蘭艷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/13 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | cf 生產(chǎn)線 制造 方法 | ||
本發(fā)明提供一種CF基板生產(chǎn)線及CF基板的制造方法。本發(fā)明的CF基板生產(chǎn)線,通過在鍍膜裝置與第二清洗裝置之間、或者第二清洗裝置與烘烤裝置之間增加一刻號(hào)裝置,用于在基板上的導(dǎo)電膜層上刻出一標(biāo)記圖案,形成對(duì)位標(biāo)記,與現(xiàn)有技術(shù)相比,避免了對(duì)鍍膜基板的頻繁搬送,提高產(chǎn)品良率,節(jié)約制程時(shí)間,降低生產(chǎn)成本。本發(fā)明的CF基板的制造方法,制程簡(jiǎn)單,避免了對(duì)鍍膜基板的頻繁搬送,提高產(chǎn)品良率,節(jié)約制程時(shí)間,降低生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種CF基板生產(chǎn)線及CF基板的制造方法。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平面顯示裝置因具有高畫質(zhì)、省電、機(jī)身薄及應(yīng)用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),而被廣泛的應(yīng)用于手機(jī)、電視、個(gè)人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、筆記本電腦、臺(tái)式計(jì)算機(jī)等各種消費(fèi)性電子產(chǎn)品,成為顯示裝置中的主流。
現(xiàn)有市場(chǎng)上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示器,其包括液晶顯示面板及背光模組(backlight module)。通常液晶顯示面板由彩膜(Color Filter,CF)基板、薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)陣列基板、夾于彩膜基板與薄膜晶體管陣列基板之間的液晶(Liquid Crystal,LC)及密封膠框(Sealant)組成,其工作原理是通過在CF基板與TFT基板的電極上施加驅(qū)動(dòng)電壓來控制液晶層中的液晶分子旋轉(zhuǎn),從而將背光模組中的光線折射出來產(chǎn)生畫面。
將傳統(tǒng)的液晶顯示面板直接彎曲以達(dá)到曲面顯示時(shí),往往會(huì)產(chǎn)生許多光學(xué)缺陷進(jìn)而造成面板的解析度下降、色片與亮度不均(mura)。常見的一種缺陷為CF基板的遮光層在液晶顯示面板彎曲后產(chǎn)生的相對(duì)位移,使得相鄰光阻的重疊除搭配不良外,在無法采用制程參數(shù)覆蓋時(shí),還會(huì)出現(xiàn)交界處凸起或凹陷的情形,這種情況容易造成曲面液晶顯示面板漏光。鑒于此,液晶面板制造業(yè)不斷出現(xiàn)將黑色矩陣設(shè)置于陣列基板上(BM on array,BOA)、以及將黑色間隔物設(shè)置于陣列基板上(black PS on array,BPS)等先進(jìn)技術(shù),以解決曲面液晶電視出現(xiàn)的漏光問題。
采用BOA、BPS等液晶顯示面板制造先進(jìn)技術(shù)均需將原本在CF側(cè)的黑色矩陣遮光層轉(zhuǎn)移到陣列基板(array)側(cè),使CF基板側(cè)只有一層透明的導(dǎo)電氧化銦錫(ITO)層。為保證液晶顯示面板在成盒(cell)制程對(duì)組成盒的精度和可行性,需在透明導(dǎo)電ITO膜上刻出對(duì)位標(biāo)記(mark)等簡(jiǎn)單標(biāo)志。按照現(xiàn)有的各廠商的CF基板的制造流程設(shè)計(jì),CF基板的制造流程主要包括基板預(yù)清洗、ITO鍍膜(sputter)、烘烤前清洗、烘烤退火(annealing)等制程,生產(chǎn)線上并沒有刻對(duì)位標(biāo)記的機(jī)臺(tái)裝置。在現(xiàn)有的生產(chǎn)線設(shè)計(jì)狀況下需要在ITO膜上刻對(duì)位標(biāo)記時(shí),需要在ITO鍍膜后將基板運(yùn)輸?shù)狡渌麢C(jī)臺(tái)如激光(laser)刻號(hào)機(jī)中進(jìn)行刻號(hào),刻號(hào)完成后再返回CF基板制造生產(chǎn)線完成后續(xù)的制程,如此操作會(huì)有以下幾個(gè)問題:第一,搬送工序復(fù)雜,特別是對(duì)于G8.5以上的液晶面板;第二,會(huì)延長(zhǎng)生產(chǎn)的制程時(shí)間(cycle time),增加生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種CF基板生產(chǎn)線,可避免對(duì)鍍膜基板的頻繁搬送,提高產(chǎn)品良率,節(jié)約制程時(shí)間,降低生產(chǎn)成本。
本發(fā)明的目的還在于提供一種CF基板的制造方法,可避免對(duì)鍍膜基板的頻繁搬送,提高產(chǎn)品良率,節(jié)約制程時(shí)間,降低生產(chǎn)成本。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種CF基板生產(chǎn)線,包括依次排列的第一清洗裝置、鍍膜裝置、刻號(hào)裝置、第二清洗裝置、及烘烤裝置,還包括分布于第一清洗裝置與鍍膜裝置之間、鍍膜裝置與刻號(hào)裝置之間、刻號(hào)裝置與第二清洗裝置之間、及第二清洗裝置與烘烤裝置之間的運(yùn)輸裝置;
所述第一清洗裝置用于在基板鍍膜前對(duì)基板進(jìn)行清洗;
所述鍍膜裝置用于在基板上鍍上一導(dǎo)電膜層;
所述刻號(hào)裝置用于在基板上的導(dǎo)電膜層上刻出一標(biāo)記圖案;
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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