[發明專利]平面光波導器件及其制作方法有效
| 申請號： | 201610288355.4 | 申請日： | 2016-05-04 |
| 公開（公告）號： | CN107346048B | 公開（公告）日： | 2020-02-18 |
| 發明（設計）人： | 李偉龍;常江;張永干;孫雨舟 | 申請（專利權）人： | 蘇州旭創科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B6/13 | 分類號： | G02B6/13;G02B6/138;G02B6/12 |
| 代理公司： | 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 沈曉敏 |
| 地址： | 215123 江蘇省蘇州市工*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 平面 波導 器件 及其 制作方法 | ||
1.一種平面光波導器件制作方法，其特征在于包括步驟：
提供一基板；
于所述基板上形成一支撐層；
于所述支撐層上形成一波導層；
于所述波導層上放置一掩膜板，所述掩膜板上具有并排且分隔設置的若干掩膜口,所述掩膜口的邊角呈弧形；
經過曝光顯影后在所述基板上形成與所述若干掩膜口相對應的若干條狀波導，每一條狀波導的至少部分表面之間為尖角過渡；
利用回流技術將尖角過渡變更為圓角過渡。
2.根據權利要求1所述的平面光波導器件制作方法，其特征在于，曝光顯影后的所述條狀波導包括上表面及鄰接所述上表面的若干側表面，所述上表面與所述掩膜口的形狀相匹配，至少所述若干側表面與所述上表面之間為尖角過渡。
3.根據權利要求1或2所述的平面光波導器件制作方法，其特征在于步驟“利用回流技術將尖角過渡變更為圓角過渡”具體包括：
于第一時間段內融化所述條狀波導；
于第二時間段內固化所述條狀波導，所述條狀波導的尖角過渡變更為圓角過渡。
4.一種平面光波導器件制作方法，其特征在于包括步驟：
提供一基板；
于所述基板上形成一支撐層；
于所述支撐層上形成一波導層；
于所述波導層上放置一掩膜板，所述掩膜板上具有并排且分隔設置的若干掩膜口,所述掩膜口的邊角呈弧形；
經過曝光顯影后在所述基板上形成與所述若干掩膜口相對應的若干條狀波導；
利用回流技術將每一條狀波導變形為圓柱狀波導。
5.根據權利要求4所述的平面光波導器件制作方法，其特征在于步驟“經過曝光顯影后在所述基板上形成與所述若干掩膜口相對應的若干條狀波導”具體包括：
經過曝光顯影后在所述基板上形成與所述若干掩膜口相對應的若干條狀結構，每一所述條狀結構依次包括所述條狀波導及條狀支撐結構。
6.根據權利要求5所述的平面光波導器件制作方法，其特征在于，所述掩膜口呈類矩形，沿所述掩膜口垂直映射方向顯影形成的條狀波導對應包括長方體本體及位于所述長方體本體兩端的弧狀體。
7.根據權利要求6所述的平面光波導器件制作方法，其特征在于步驟“利用回流技術將每一條狀波導變形為圓柱狀波導”具體包括：
于第一時間段內融化所述條狀波導；
于第二時間段內固化所述條狀波導，所述長方體本體變形為圓柱狀本體，所述弧狀體變形為半球體，所述圓柱狀本體及所述半球體組合形成所述圓柱狀波導。
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