[發(fā)明專利]一種用于半導(dǎo)體制程的化學(xué)退鍍液及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610286324.5 | 申請(qǐng)日： | 2016-05-04 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105821411A | 公開（公告）日： | 2016-08-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 胡青華 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 昆山艾森半導(dǎo)體材料有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23F1/16 | 分類號(hào)： | C23F1/16;C23F1/30 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 半導(dǎo)體 化學(xué) 退鍍液 及其 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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