[發明專利]一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法在審
| 申請號： | 201610283991.8 | 申請日： | 2016-04-29 |
| 公開（公告）號： | CN107331768A | 公開（公告）日： | 2017-11-07 |
| 發明（設計）人： | 張云森 | 申請（專利權）人： | 上海磁宇信息科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L43/12 | 分類號： | H01L43/12 |
| 代理公司： | 上海容慧專利代理事務所(普通合伙)31287 | 代理人： | 于曉菁 |
| 地址： | 201800 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁性 隧道 雙層 導電 硬掩模 刻蝕 方法 | ||
1.一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S1：提供包括磁性隧道結多層膜的襯底；
步驟S2：在所述襯底上依次形成鉭膜層和氮化鈦膜層；
步驟S3：圖形化轉移磁性隧道結圖案到所述氮化鈦膜層，使用光刻膠和有機抗反射層完成對所述圖案的圖形化定義；
步驟S4：采用Cl2/CH4混合氣體干刻蝕所述氮化鈦膜層，使所述圖案轉移到所述鉭膜層；
步驟S5：采用HCl/He/O2對所述氮化鈦膜層和所述鉭膜層進行選擇性刻蝕，以完成對雙層導電硬掩模的圖案化；
步驟S6：采用氧氣灰化工藝除去多余的所述光刻膠和所述有機抗反射層。
2.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述磁性隧道結多層膜的厚度為15～40nm。
3.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述鉭膜層的厚度為50～200nm，所述氮化鈦膜層的厚度為20～100nm。
4.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述有機抗反射層的厚度為30～100nm，所述光刻膠的厚度為90～250nm。
5.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述HCl的流量范圍為0～60sccm。
6.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述He的流量范圍為0～140sccm。
7.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述O2的流量范圍為0～5sccm。
8.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述HCl/He/O2混合氣體中HCl的含量為20～40％。
9.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，所述HCl/He/O2混合氣體中O2的含量為0.0～2.0％。
10.根據權利要求1所述的一種磁性隧道結雙層導電硬掩模的刻蝕方法，其特征在于，干刻蝕雙層硬掩模所采用的壓強為20～60mT。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海磁宇信息科技有限公司，未經上海磁宇信息科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610283991.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：半導體器件
- 下一篇：一種燃氣沖天爐高溫空氣燃燒裝置及方法
