[發(fā)明專利]核-殼量子點(diǎn)摻雜的聚合物墊的連續(xù)流合成的方法和校正發(fā)光裝置的發(fā)射光譜的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610282370.8 | 申請(qǐng)日: | 2016-04-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106098905B | 公開(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉晨敏;郭志豪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 納米及先進(jìn)材料研發(fā)院有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/50 | 分類號(hào): | H01L33/50;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李偉 |
| 地址: | 中國(guó)香港新界沙田香港科學(xué)園*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)香港;81 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 量子 摻雜 聚合物 連續(xù)流 合成 方法 校正 發(fā)光 裝置 發(fā)射光譜 | ||
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于納米及先進(jìn)材料研發(fā)院有限公司,未經(jīng)納米及先進(jìn)材料研發(fā)院有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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