[發(fā)明專利]一種具有(004)晶面擇優(yōu)的二氧化鈦薄膜材料的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610280115.X | 申請日： | 2016-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN107326335B | 公開（公告）日： | 2019-05-10 |
| 發(fā)明（設計）人： | 丁萬昱;劉金東 | 申請（專利權）人： | 大連交通大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58 |
| 代理公司： | 大連東方專利代理有限責任公司 21212 | 代理人： | 趙淑梅;李馨 |
| 地址： | 116028 遼寧*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 004 擇優(yōu) 氧化 薄膜 材料 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種具有(004)晶面擇優(yōu)的二氧化鈦薄膜材料的制備方法，其特征在于：所述制備方法包括如下步驟：
①利用磁控濺射的方法得到非晶二氧化鈦薄膜材料，所述磁控濺射的功率密度為0.8-3.3W/cm2，所述磁控濺射的溫度為室溫，所述磁控濺射的工作氣體為高純氬和高純氧，所述磁控濺射的靶材為高純金屬鈦靶；
②在空氣條件下，將非晶二氧化鈦薄膜材料400-600℃退火得到具有(004)晶面擇優(yōu)的銳鈦礦相多晶結構的二氧化鈦薄膜材料。
2.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述非晶二氧化鈦薄膜材料的厚度大于100nm。
3.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述退火時間為30-60min。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
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