[發(fā)明專(zhuān)利]一種氟化鎂中波紅外光學(xué)窗口高強(qiáng)度保護(hù)膜的膜系結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610273523.2 | 申請(qǐng)日： | 2016-04-28 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN105824061B | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-01-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張建付;楊崇民;米高園;張萬(wàn)虎;劉青龍;黎明;王松林;劉方;楊建軍;金珂;趙興梅;楊華梅;王潤(rùn)榮;董瑩 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 西安應(yīng)用光學(xué)研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02B1/14 | 分類(lèi)號(hào)： | G02B1/14;G02B1/115 |
| 代理公司： | 西北工業(yè)大學(xué)專(zhuān)利中心61204 | 代理人： | 陳星 |
| 地址： | 710065 陜西*** | 國(guó)省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 氟化 中波 紅外 光學(xué) 窗口 強(qiáng)度 保護(hù)膜 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種氟化鎂中波紅外光學(xué)窗口高強(qiáng)度保護(hù)膜的膜系結(jié)構(gòu)，包括減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系；其特征在于：還包括氟化鎂基片；所述減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系由四種薄膜材料制備的四個(gè)膜層疊加構(gòu)成，其中，第一膜層為氟化鎂膜層，鍍制在所述氟化鎂基片的表面上，膜層厚度18～24nm；第二膜層為硫化鋅膜層，膜層厚度495～503nm，并鍍制在所述第一膜層上；第三膜層為鍺膜層，膜層厚度112～120nm，并鍍制在所述第二膜層上；第四膜層為類(lèi)金剛石膜層，膜層厚度498～502nm，并鍍制在所述第三膜層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氟化鎂中波紅外光學(xué)窗口高強(qiáng)度保護(hù)膜的膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括氟化鎂基片和減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系，所述減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系由四種薄膜材料制備的四個(gè)膜層疊加構(gòu)成，其中，第一膜層為氟化鎂膜層，鍍制在所述氟化鎂基片的表面上，膜層厚度19nm；第二膜層為硫化鋅膜層，膜層厚度503nm，并鍍制在所述第一膜層上；第三膜層為鍺膜層，膜層厚度112nm，并鍍制在所述第二膜層上；第四膜層為類(lèi)金剛石膜層，膜層厚度502nm，并鍍制在所述第三膜層上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氟化鎂中波紅外光學(xué)窗口高強(qiáng)度保護(hù)膜的膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括氟化鎂基片和減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系，所述減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系由四種薄膜材料制備的四個(gè)膜層疊加構(gòu)成，其中，第一膜層為氟化鎂膜層，鍍制在所述氟化鎂基片的表面上，膜層厚度18nm；第二膜層為硫化鋅膜層，膜層厚度496nm，并鍍制在所述第一膜層上；第三膜層為鍺膜層，膜層厚度114nm，并鍍制在所述第二膜層上；第四膜層為類(lèi)金剛石膜層，膜層厚度500nm，并鍍制在所述第三膜層上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氟化鎂中波紅外光學(xué)窗口高強(qiáng)度保護(hù)膜的膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括氟化鎂基片和減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系，所述減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系由四種薄膜材料制備的四個(gè)膜層疊加構(gòu)成，其中，第一膜層為氟化鎂膜層，鍍制在所述氟化鎂基片的表面上，膜層厚度24nm；第二膜層為硫化鋅膜層，膜層厚度503nm，并鍍制在所述第一膜層上；第三膜層為鍺膜層，膜層厚度120nm，并鍍制在所述第二膜層上；第四膜層為類(lèi)金剛石膜層，膜層厚度502nm，并鍍制在所述第三膜層上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氟化鎂中波紅外光學(xué)窗口高強(qiáng)度保護(hù)膜的膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括氟化鎂基片和減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系，所述減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系由四種薄膜材料制備的四個(gè)膜層疊加構(gòu)成，其中，第一膜層為氟化鎂膜層，鍍制在所述氟化鎂基片的表面上，膜層厚度18nm；第二膜層為硫化鋅膜層，膜層厚度495nm，并鍍制在所述第一膜層上；第三膜層為鍺膜層，膜層厚度112nm，并鍍制在所述第二膜層上；第四膜層為類(lèi)金剛石膜層，膜層厚度498nm，并鍍制在所述第三膜層上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種氟化鎂中波紅外光學(xué)窗口高強(qiáng)度保護(hù)膜的膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括氟化鎂基片和減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系，所述減反射高強(qiáng)度保護(hù)膜系由四種薄膜材料制備的四個(gè)膜層疊加構(gòu)成，其中，第一膜層為氟化鎂膜層，鍍制在所述氟化鎂基片的表面上，膜層厚度22nm；第二膜層為硫化鋅膜層，膜層厚度501nm，并鍍制在所述第一膜層上；第三膜層為鍺膜層，膜層厚度118nm，并鍍制在所述第二膜層上；第四膜層為類(lèi)金剛石膜層，膜層厚度502nm，并鍍制在所述第三膜層上。
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