[發(fā)明專利]用于金屬注入的離子源及其方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610270946.9 | 申請日： | 2016-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN106098521A | 公開（公告）日： | 2016-11-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | E·韋爾特斯徹;P·祖潘;W·舒斯特德;M·杰里納克;R·埃伯維恩;F·科勒納 | 申請（專利權(quán)）人： | 英飛凌科技股份有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/317 | 分類號： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人： | 鄭立柱;張昊 |
| 地址： | 德國諾伊*** | 國省代碼： | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 金屬 注入 離子源 及其 方法 | ||
【說明書】：
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