[發(fā)明專利]光線收集透鏡、曝光光學(xué)系統(tǒng)、曝光頭及曝光裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610269363.4
• 申請日: 2016-04-27
• 公開（公告）號: CN105676598A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周禮書;霍永峰
• 申請（專利權(quán)）人: 成都?xì)W恒光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 四川力久律師事務(wù)所 51221
• 代理人: 王蕓;熊曉果

1.一種光線收集透鏡，其特征在于：包括用于容納光源的容納腔，所述光源包括若干陣列布置的LED芯片，所述容納腔的壁面為入射面，光源發(fā)出的光線由光線收集透鏡收集并進(jìn)行角度和光束口徑的控制，使盡量多的光線能夠被后繼其他透鏡接收并且有效通過。

2.如權(quán)利要求1所述的光線收集透鏡，其特征在于：所述光源發(fā)出的光線包括位于中部的小角度光線和環(huán)繞與所述小角度光線外的大角度光線，所述光線收集透鏡還包括有出射面和反射面，小角度光線由入射面進(jìn)入光線收集透鏡后直接由出射面射出，大角度光線光線由入射面進(jìn)入光線收集透鏡后，經(jīng)所述反射面后再折射出出射面。

3.如權(quán)利要求2所述的光線收集透鏡，其特征在于：所述入射面包括第一入射面和第二入射面，所述第二入射面環(huán)繞于所述第一入射面外，小角度光線和大角度光線分別由第一入射面和第二入射面折射進(jìn)入光線收集透鏡。

4.如權(quán)利要求3所述的光線收集透鏡，其特征在于：所述出射面包括第一出射面和第二出射面，所述第二出射面環(huán)繞于所述第一出射面外，小角度光線和大角度光線分別由第一入射面和第二入射面折射出光線收集透鏡。

5.如權(quán)利要求4所述的光線收集透鏡，其特征在于：所述第一入射面為向光源凸起的曲面，所述第一出射面為背離所述第一入射面凸起的曲面，所述第一出射面的曲率半徑大于第一入射面的曲率半徑。

6.如權(quán)利要求3-5任意一項所述的光線收集透鏡，其特征在于：所述反射面呈碗狀，所述第二出射面為平面。

7.一種曝光光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：包括如權(quán)利要求1-6任意一項所述的光線收集透鏡，還包括有準(zhǔn)直鏡，準(zhǔn)直鏡將光線收集透鏡折射出的光線進(jìn)行準(zhǔn)直，使曝光光學(xué)系統(tǒng)輸出平行光線，然后投射到曝光工作面。

8.如權(quán)利要求7所述的曝光光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述曝光光學(xué)系統(tǒng)還包括有復(fù)眼透鏡，所述復(fù)眼透鏡設(shè)置在所述光線收集透鏡與準(zhǔn)直鏡之間，所述復(fù)眼透鏡接收光線收集透鏡出射的光線，并對光線進(jìn)行擴(kuò)束和整形處理，然后再將光線折射至所述準(zhǔn)直鏡。

9.如權(quán)利要求8所述的曝光光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述復(fù)眼透鏡由多個復(fù)眼透鏡子單元堆疊而成，每個復(fù)眼透鏡子單元對其接收到的光線進(jìn)行擴(kuò)束及整形處理。

10.如權(quán)利要求9所述的曝光光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述曝光光學(xué)系統(tǒng)還包括有場鏡，所述場鏡設(shè)置在所述復(fù)眼透鏡與準(zhǔn)直鏡之間，由所述復(fù)眼透鏡折射出的光學(xué)進(jìn)入到的場鏡中，所述場鏡將復(fù)眼透鏡子單元射出的光束進(jìn)行重疊疊加。

11.如權(quán)利要求10所述的曝光光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述場鏡與所述準(zhǔn)直鏡之間或者所述收集透鏡與復(fù)眼透鏡之還設(shè)置有用于改變光線傳輸方向的反射鏡。

12.如權(quán)利要求7-11任意一項所述的曝光光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述準(zhǔn)直鏡為折射透鏡或者曲面反射鏡。

13.一種曝光頭，其特征在于：包括如權(quán)利要求1-6任意一項所述的光線收集透鏡或者如權(quán)利要求7-12任意一項所述的曝光光學(xué)系統(tǒng)或者上述的，還包括有光源，所述光源為紫外光源。

14.如權(quán)利要求13所述的曝光頭，其特征在于：所述光源為若干陣列布置在同一封裝內(nèi)的紫外LED芯片。

15.一種曝光裝置，其特征在于：其包括有如權(quán)利要求1-6任意一項所述的光線收集透鏡或者如權(quán)利要求7-12任意一項所述的曝光光學(xué)系統(tǒng)或者如權(quán)利要求13或14任意一項所述的曝光頭。