[發明專利]一種高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池在審
| 申請號: | 201610268228.8 | 申請日: | 2016-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN105742721A | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發明(設計)人: | 張大峰 | 申請(專利權)人: | 國軒新能源(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | H01M10/0587 | 分類號: | H01M10/0587;H01M10/04;H01M2/26 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 湯東鳳 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高能 內阻 圓柱 鋰離子電池 | ||
技術領域
本發明屬于鋰電池技術領域,尤其涉及一種高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池。
背景技術
目前,圓柱鋰離子電池的卷芯主要為單極耳或多極耳的卷繞式卷芯以及疊片式卷芯。單極耳或多極耳的卷繞式卷芯雖然卷芯在卷繞時產能效率高,但受卷芯自身極耳個數及面積限制,存在低能比、高內阻等電性能方面劣勢;疊片式卷芯雖然具有高能比、低內阻等性能方面的優勢,但存在產能效率低、疊片數量增多時箔材轉焊極耳難度大易虛焊等問題。因此,有必要開發一種兼顧卷芯卷繞效率和電池電性能的高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池。
發明內容
本發明的目的是提供一種高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池。
本發明通過如下技術方案實現上述目的:
一種高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池,包括電芯,所述電芯包括正極片、負極片、內隔膜和外隔膜,所述正極片和所述負極片上作為導電極耳的空白箔區分別位于所述電芯的兩端,所述內隔膜、所述負極片的敷料區、所述外隔膜和所述正極片的敷料區依次貼合卷繞成所述電芯,所述電芯的兩端分別經超聲揉平形成全極耳。
優選的,所述負極片的敷料區位于所述內隔膜的中間位置,所述正極片的敷料區位于所述外隔膜的中間位置。
優選的,所述正極片的空白箔區的寬度為2mm-10mm,所述負極片的空白箔區的寬度為2mm-10mm。
優選的,所述電芯的兩端導電全極耳通過超聲揉平方式將所述正極片的空白箔區和所述負極片的空白箔區分別揉去0.5mm-2mm。
優選的,所述電芯采用定直徑卷繞終止方式卷繞。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:本發明的一種高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池的正負極以正極片和負極片的空白箔區作為導電極耳,采用全極耳超聲揉平設計使電芯兩端的電極形成便于后續激光焊接的致密緊湊的全極耳,大大降低了電池的內阻,提升了電池的性能,采用卷繞方式,兼顧了產能效率;整個卷芯設計方式簡單,電性能佳,產率高,實用性強。
附圖說明
圖1是本發明實施例的結構示意圖。
具體實施方式
實施例:
如圖1所示,本實施例的一種高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池,包括電芯,電芯包括正極片1、負極片2、內隔膜3和外隔膜4,正極片1和負極片2上作為導電極耳的空白箔區11和21分別位于電芯的兩端,內隔膜3、負極片2的敷料區22、外隔膜4和正極片1的敷料區12依次貼合采用定直徑卷繞終止方式卷繞成電芯。正極片1的空白箔區11的寬度為2mm-10mm。負極片2的空白箔區21的寬度為2mm-10mm。電芯的兩端分別經超聲揉平使正極片1的空白箔區11和負極片2的空白箔區21分別揉去0.5mm-2mm形成全極耳。負極片2的敷料區22位于內隔膜3的中間位置,正極片1的敷料區12位于外隔膜4的中間位置。
應用本實施例時,正極片1和負極片2采用連續涂布,敷料區12和22兩端各留適宜寬度的空白箔材,經烘烤、碾壓、分切成前端留2mm-10mm的空白箔區11和21。調整卷繞機,內隔膜3先預卷2圈后加入負極片2,將負極片2的敷料區22置于內隔膜3中間,負極片2的空白箔區21沿內隔膜3的寬度方向的左側延伸,內隔膜3、外隔膜4與負極片2一起卷1.5圈后加入正極片1,將正極片1的敷料區12置于外隔膜4中間,正極片1的空白箔區11沿外隔膜4的寬度方向的右側延伸,與負極片2、內隔膜3、外隔膜4一起卷繞,最后以定直徑方式終止卷繞,切斷隔膜與電極極片,再將電芯的兩端的空白箔區11和21通過超聲揉平分別揉去0.5mm-2mm形成全極耳,即可得到高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池。負極片2用于電池的負極,在電池電性能測試時鋰離子脫嵌其炭層間,內隔膜3和外隔膜4用于隔離正負電極防止電池內短路,正極片1用于電池的正極,在電池電性能測試時鋰離子的脫嵌其磷酸鐵鋰等主材間。
本實施例的一種高能比、低內阻的圓柱鋰離子電池的正負極以正極片1和負極片2的空白箔區11和21作為導電極耳,采用全極耳超聲揉平設計使電芯兩端的電極形成便于后續激光焊接的致密緊湊的全極耳,大大降低了電池的內阻,提升了電池的性能,采用卷繞方式,兼顧了產能效率;整個卷芯設計方式簡單,電性能佳,產率高,實用性強。
以上所述的僅是本發明的一些實施方式。對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明創造構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發明的保護范圍。
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