[發明專利]一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置及方法

有效

• 申請號: 201610263441.X
• 申請日: 2016-04-26
• 公開（公告）號: CN105758719B
• 公開（公告）日: 2018-03-16
• 發明（設計）人: 白鵬翔;朱飛鵬;雷冬
• 申請（專利權）人: 河海大學
• 主分類號: G01N3/06
• 分類號: G01N3/06;G01B11/16
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司32200
• 代理人: 朱楨榮

1.一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置，其特征在于，包括光源、第一反射鏡、第二反射鏡、攝像機和處理器；其中，

光源用于產生非相干光，非相干光照射被測樣品的第一被測面和第二被測面，第一被測面和第二被測面相互平行，且第一被測面和第二被測面均與攝像機的光軸平行；

第一反射鏡，用于使第一被測面經其反射成像至攝像機的鏡頭上；

第二反射鏡，用于使第二被測面經其反射成像至攝像機的鏡頭上；

攝像機，用于將采集到的第一被測面的圖像和第二被測面的圖像傳輸至處理器進行處理，得到被測樣品的應變。

2.根據權利要求1所述的一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置，其特征在于，所述第一反射鏡和第二反射鏡為相同規格的反射鏡，且大小相等。

3.根據權利要求1所述的一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置，其特征在于，第一反射鏡和第二反射鏡是對稱設置在被測樣品的兩側。

4.根據權利要求1所述的一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置，其特征在于，所述第一反射鏡與被測樣品的第一被測面成45度角，第二反射鏡與被測樣品的第二被測面成45度角。

5.根據權利要求1所述的一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置，其特征在于，所述處理器為計算機。

6.基于權利要求1所述的一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置的測量方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1、在被測樣品的第一被測面、第二被測面上分別制造特征圖案；

步驟2、在被測樣品發生變形前，采集變形前的第一被測面和第二被測面的圖像；在變形前的第一被測面的圖像中選取兩個特征點，兩特征點連線方向與應變方向平行，這兩特征點間距為第一標距；在變形前的第二被測面的圖像中也選取兩個特征點，兩特征點連線方向與應變方向平行，這兩特征點間距為第二標距；

步驟3、在被測樣品發生變形后，采集得到變形后的第一被測面和第二被測面的圖像，分別測量出被測樣品的兩個被測表面的應變；具體如下：

根據變形后的第一被測面的圖像，利用數字圖像相關算法分別計算出兩個特征點的絕對位移，將這兩個特征點的絕對位移相減得出兩個特征點的相對位移，兩個特征點的相對位移再除以第一標距即得到第一被測面的應變；

根據變形后的第二被測面的圖像，利用數字圖像相關算法分別計算出兩個特征點的絕對位移，將這兩個特征點的絕對位移相減得出兩個特征點的相對位移，兩個特征點的相對位移再除以第二標距即得到第二被測面的應變；

步驟4、測量出被測樣品的應變：將步驟3中計算出的第一被測面的應變和第二被測面的應變進行算術平均，即得到被測樣品的應變。